分光测色仪器三维样品架的设计

目前物理实验室常用的分光测色仪器只能对片状样品进行反射光谱的测量,但在实际应用中,特别是测量地质样品的光学特性时,需要进行无损检测,因此不能对样品进行切片处理.针对这一情况,我们设计了和测色仪器配套使用的三维样品架,该样品架可以很好地测量三维样品的颜色.

高分辨二次离子质谱超高真空样品台的研制

目前,微束类分析仪器的一次离子束斑越来越精细,直径已达到微米级甚至亚微米级,仪器真空度也已达到稳定的超高真空水平,因此,亟需研制一种与之相匹配的高分辨样品台,提高在超高真空环境下的分辨力及定位精度。新研制的样品台,通过置于真空腔体外部的高精度滑台驱动小型焊接波纹管的伸缩传递三维运动,解决了大尺寸焊接波纹管表面放气及承受较大大气压力的问题;通过使用适用于超高真空的材料和固体润滑、无动态密封,解决了高真空中摩擦偶件的润滑问题。实验数据表明:在40mm行程范围内,运动平台三轴定位重复性为0.94、1.83、0.38μm,分辨力为0.10μm,并已成功地应用在1.19×10-6 Pa超真空环境下。外置的高精度滑台不仅克服了真空电机在真空腔体内发热及绝缘材料放气的问题,而且不需要引入任何电子电气元件及导线,不会在分析腔室内产生电磁干扰,行程不受装置本身的限制。这些特性不仅可满足二次离子质谱仪的要求,也适用于具有高分辨、超高真空环境、无污染要求的其他分析测试仪器。

原子层沉积工艺制备催化薄膜厚度对生长碳纳米管阵列的影响

通过原子层沉积(ALD)工艺在硅基底依次沉积氧化铝缓冲层薄膜和氧化铁催化薄膜,然后利用管式炉进行水辅助化学气相沉积(WACVD)生长垂直碳纳米管阵列(VACNTs)。结果表明:ALD工艺制备的氧化铁薄膜经还原气氛热处理可形成碳纳米管阵列生长所需的纳米催化颗粒;氧化铁薄膜厚度与纳米催化颗粒大小以及生长出的碳纳米管阵列的结构密切相关。当氧化铁薄膜厚度为1.2 nm时,生长出的碳纳米管阵列管外径约为10 nm,管壁层数约为5层,阵列高度约为400?m。增大氧化铁薄膜的厚度,生长出的碳纳米管阵列外径和管壁数增加,阵列高度降低。实验还在硅基底侧面观察到了VACNTs,表明ALD工艺可在三维结构上制备催化薄膜用于生长VACNTs。