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富含缺陷的(Ni-Co)Ox-NiCo2S4三维异质纳米片的制备及氧析出性能研究
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作者 赵静 欧阳艳 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2020年第7期95-101,共7页
电解水过程中的阳极半反应-氧析出反应(OER)是四电子转移的动力学缓慢过程,且需较高的过电位来驱动该反应,故较高的OER过电位限制了电解水的效率,成为电解水技术发展的瓶颈。因此开发性能优异的OER催化剂,降低该反应的过电位是电解水技... 电解水过程中的阳极半反应-氧析出反应(OER)是四电子转移的动力学缓慢过程,且需较高的过电位来驱动该反应,故较高的OER过电位限制了电解水的效率,成为电解水技术发展的瓶颈。因此开发性能优异的OER催化剂,降低该反应的过电位是电解水技术发展的关键。本文通过水热法成功制备出富含缺陷的(Ni-Co)Ox/NiCo2S4三维异质纳米片,并测试其对OER的催化活性。(Ni-Co)Ox/NiCo2S4在碱性介质(1 mol/L KOH)中显示出优异的OER催化活性,在10 mA·cm^-2电流密度下的过电位为370 mV,在1.60 V vs. RHE恒压连续测试20 h,电流密度并未出现明显的变化,具有较好的电催化稳定性。 展开更多
关键词 氧析出(OER) 三维纳米片 缺陷 异质界面
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基于PECVD技术的石墨烯可控制备与应用:现状与展望
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作者 郝朝旭 王雪东 +1 位作者 何燕 慈海娜 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第14期1893-1905,共13页
石墨烯因其优异的物理/化学特性,在众多领域有着广泛的应用前景.为了推动石墨烯材料的实际应用,需要寻找稳定可靠、可扩展和低成本的石墨烯材料制备方法.等离子体增强化学气相沉积(plasma-enhanced chemical vapor deposition, PECVD)... 石墨烯因其优异的物理/化学特性,在众多领域有着广泛的应用前景.为了推动石墨烯材料的实际应用,需要寻找稳定可靠、可扩展和低成本的石墨烯材料制备方法.等离子体增强化学气相沉积(plasma-enhanced chemical vapor deposition, PECVD)技术是一种借助外加能量辅助反应前驱体裂解产生等离子体,进而实现石墨烯制备的方法. PECVD技术在沿袭了传统化学气相沉积法工艺产物设计性强、反应途径灵活、可批量化、高品质制备石墨烯等优点的基础上,可以实现石墨烯在更低的生长温度、更多样化的生长衬底上以更快的生长速度制备合成,从而能够有效降低能耗,提高制备效率,拓展石墨烯的应用场景.本文综述了近年来利用不同等离子体源(射频、直流和微波)PECVD技术制备石墨烯的研究进展,讨论了其生长机理,以及PECVD制备石墨烯在储能、器件散热和光热转化等相关领域的应用,进一步对PECVD技术在石墨烯制备和应用中面临的挑战和未来的发展前景进行了总结. 展开更多
关键词 等离子体增强化学气相沉积 二维石墨烯薄膜 三维石墨烯纳米 储能 散热 光热转化
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