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三阶聚合物波导布拉格光栅的设计与制备
被引量:
4
1
作者
周娟
恽斌峰
+1 位作者
胡国华
崔一平
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第11期2095-2099,共5页
利用紫外固化聚合物材料ZPU46和ZPU44分别作为芯层和包层材料,设计并制备了中心波长在1 550nm附近的三阶聚合物波导布拉格光栅(WBG)滤波器。采用接触式光刻和反应离子刻蚀(RIE)等传统微加工工艺,在高为4μm的单模矩形波导表面制备周期为...
利用紫外固化聚合物材料ZPU46和ZPU44分别作为芯层和包层材料,设计并制备了中心波长在1 550nm附近的三阶聚合物波导布拉格光栅(WBG)滤波器。采用接触式光刻和反应离子刻蚀(RIE)等传统微加工工艺,在高为4μm的单模矩形波导表面制备周期为1.6μm、高为680nm的皱褶型光栅结构。实验测得截面尺寸为4μm×4.2μm和5μm×4.2μm)的三阶聚合物WBG的谐振波长分别为1 549和1 550.5nm,边模抑制比分别为19和18dB,3dB带宽分别为0.4nm和0.6nm,插入损耗为-7dB,与理论设计结果符合较好。
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关键词
聚合物
波导布拉格
光栅
(WBG)
三阶光栅
原文传递
题名
三阶聚合物波导布拉格光栅的设计与制备
被引量:
4
1
作者
周娟
恽斌峰
胡国华
崔一平
机构
东南大学先进光子学中心
出处
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第11期2095-2099,共5页
文摘
利用紫外固化聚合物材料ZPU46和ZPU44分别作为芯层和包层材料,设计并制备了中心波长在1 550nm附近的三阶聚合物波导布拉格光栅(WBG)滤波器。采用接触式光刻和反应离子刻蚀(RIE)等传统微加工工艺,在高为4μm的单模矩形波导表面制备周期为1.6μm、高为680nm的皱褶型光栅结构。实验测得截面尺寸为4μm×4.2μm和5μm×4.2μm)的三阶聚合物WBG的谐振波长分别为1 549和1 550.5nm,边模抑制比分别为19和18dB,3dB带宽分别为0.4nm和0.6nm,插入损耗为-7dB,与理论设计结果符合较好。
关键词
聚合物
波导布拉格
光栅
(WBG)
三阶光栅
Keywords
polymer
waveguide Bragg grating (WBG)
third-order grating
分类号
TN253 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
三阶聚合物波导布拉格光栅的设计与制备
周娟
恽斌峰
胡国华
崔一平
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
4
原文传递
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参考文献
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