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三阶聚合物波导布拉格光栅的设计与制备 被引量:4
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作者 周娟 恽斌峰 +1 位作者 胡国华 崔一平 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第11期2095-2099,共5页
利用紫外固化聚合物材料ZPU46和ZPU44分别作为芯层和包层材料,设计并制备了中心波长在1 550nm附近的三阶聚合物波导布拉格光栅(WBG)滤波器。采用接触式光刻和反应离子刻蚀(RIE)等传统微加工工艺,在高为4μm的单模矩形波导表面制备周期为... 利用紫外固化聚合物材料ZPU46和ZPU44分别作为芯层和包层材料,设计并制备了中心波长在1 550nm附近的三阶聚合物波导布拉格光栅(WBG)滤波器。采用接触式光刻和反应离子刻蚀(RIE)等传统微加工工艺,在高为4μm的单模矩形波导表面制备周期为1.6μm、高为680nm的皱褶型光栅结构。实验测得截面尺寸为4μm×4.2μm和5μm×4.2μm)的三阶聚合物WBG的谐振波长分别为1 549和1 550.5nm,边模抑制比分别为19和18dB,3dB带宽分别为0.4nm和0.6nm,插入损耗为-7dB,与理论设计结果符合较好。 展开更多
关键词 聚合物 波导布拉格光栅(WBG) 三阶光栅
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