第4届结技术国际研讨会(The 4th International Workshop on Junction Technology:IWJT-2004)于2004年3月15~16日在上海举行。本届会议(IWJT-2004),由中国电子学会和日本应用物理学会硅技术分会主办,在国家自然科学基金委、上海市...第4届结技术国际研讨会(The 4th International Workshop on Junction Technology:IWJT-2004)于2004年3月15~16日在上海举行。本届会议(IWJT-2004),由中国电子学会和日本应用物理学会硅技术分会主办,在国家自然科学基金委、上海市科学技术委员会以及复旦大学微电子研究院等的支持下,由复旦大学负责筹办,首次在中国上海召开。随着CMOS器件进入纳米时代,展开更多
文摘第4届结技术国际研讨会(The 4th International Workshop on Junction Technology:IWJT-2004)于2004年3月15~16日在上海举行。本届会议(IWJT-2004),由中国电子学会和日本应用物理学会硅技术分会主办,在国家自然科学基金委、上海市科学技术委员会以及复旦大学微电子研究院等的支持下,由复旦大学负责筹办,首次在中国上海召开。随着CMOS器件进入纳米时代,