陶瓷生产上釉装置的机械自动化设计

本文通过设计一种高效、自动化的陶瓷生产用上釉装置,以解决现有上釉方式存在的效率低、釉液浪费和陶瓷底部粘连等问题,提升陶瓷生产的质量和效率。通过对现有上釉技术的概述、上釉装置机械设计方案、关键技术与创新点、工作原理与操作流程的剖析,成功设计了一种高效自动化的陶瓷上釉装置,显著提高了陶瓷上釉的效率和釉液利用率,解决了传统方法中釉液浪费和陶瓷底部粘连等问题。为陶瓷工业提供了一种高效、自动化的上釉解决方案,不仅提高了生产效率,降低了生产成本,还提升了陶瓷产品的质量,具有广泛的应用前景和重要的实际意义。

抛光与上釉对牙科纳米陶瓷表面粗糙度的影响

目的比较抛光与上釉对纳米陶瓷表面粗糙度的影响。方法用纳米陶瓷粉（IMAGINE REFLEX）制备盘状试件40个，随机分为A、B两组。A组抛光组用240^#～1500^#碳化硅砂纸依次逐级打磨，最后用金刚砂抛光膏完成抛光。B组上釉组重新表面上釉。以粗糙度测试仪测试两组试件表面分别经抛光和表面上釉后表面粗糙度值并进行统计学分析，扫描电镜观察和评估样本表面形貌。结果纳米陶瓷IMAGENE REFLEX抛光组和上釉组表面粗糙度值无显著性差异（P〉0．05）；扫描电镜结果显示抛光组和上釉组表面无明显差异，均较为光滑，抛光组表面散在少量细小孔隙。结论对于纳米陶瓷的表面处理，抛光可以获得和重新上釉相同的表面光滑度。

烧烤次数及上釉方式对金瓷修复体颜色的影响

烧烤次数增加、上釉方式不同是否会影响金瓷修复体的颜色这一问题尚存争议。本实验用WSC型测色色差计对不同烧烤次数及不同上釉方式的金瓷试件共40个进行了测试分析,结果表明:增加烧烤次数,采用不同上釉方式均可影响修复体的颜色。因此,笔者建议临床上应尽量减少金瓷修复体的烧烤次数,同时,最好使用一种上釉方式。

抛光和自上釉对陶瓷表面平滑度的影响

目的 :比较研究抛光和自上釉这两种不同的陶瓷表面处理方法 ,对陶瓷表面平滑度产生的影响。方法 :分别以SEM和粗糙度测试仪 ,对抛光组和自上釉组的试件表面进行定量测试分析。试件的制作及处理均按照临床所用的常规方法。结果 :SEM观察表明抛光组的平滑度与自上釉相似。经粗糙度测试仪测得的Ra值 ,抛光组为 0 .412 μm ,自上釉组为 0 .417μm。两者比较未见显著性差异 (P >0 .0 5 ) ,且SEM的检查与Ra值的测定具有一致性。结论 :采用抛光处理可以获得与自上釉相同平滑度的陶瓷表面。

抛光和自上釉对陶瓷挠曲强度的影响

目的:比较评价抛光和自上釉这两种不同的对陶瓷表面光滑度处理方法,对陶瓷材料的挠曲强度的影响。方法:以Vita VMK体瓷粉制作20个试件,随机分成数目相等的两组,分别进行抛光和自上釉处理。以应力分析仪测度两组试件的挠曲强度,并配以SEM检查两组试件的表面情况。结果:抛光组挠曲强度值为26.25Mpa,自上釉组为20.31Mpa。抛光组明显高于自上釉组并具有显著性差异(P<0.05)。结论:对陶瓷表面的抛光处理可以获得比自上釉相对高的挠曲强度。

上釉方式对钛-瓷修复体颜色及表面结构的影响

目的 探讨不同的上釉方式对钛 -瓷修复体表面颜色的影响 ,并了解修复体表面结构的变化。方法 制作钛 -瓷修复体标准试件 ,分别用不同的上釉方法处理 ,采用 CIE1976 L AB色度系统在上釉前后对试件进行颜色测试 ,得到 L*、a*、b*值及 C* ab(饱和度 )和 hab(色调角 ) ,对所得结果进行统计分析 ,计算两组试件上釉前后的色差值。肉眼观察不同上釉处理的修复体表面结构。结果 用不同上釉方式处理的两组试件的色度值 ,上釉前后的差异均无显著性 (P>0 .0 5 ) ,色差值均小于 1.5 ;两组试件表面结构无差异。结论 不同的上釉方式对钛 -瓷修复体表面颜色的影响无显著差异 ,只要上釉前处理方法相同 。

自上釉陶瓷的成釉工艺研究

鉴于自上釉陶瓷配料中必须包含形成釉层所需的成份，推测ＣＡ 值介于１．７ ～２．２ 之间，并以景德镇传统配方为基础，外加少量活化剂，采取红外干燥研制出自上釉陶瓷。

上釉技术对氧化钇稳定四方相氧化锆多晶陶瓷粘接及力学性能的影响

背景:任何表面处理都应在不损害原有氧化钇稳定四方相氧化锆多晶陶瓷强度的前提下提高其粘接强度。目前缺乏上釉技术对氧化钇稳定四方相氧化锆多晶陶瓷粘接强度影响的资料,并且其对氧化钇稳定四方相氧化锆多晶陶瓷力学性能的影响尚不明确。目的:评估上釉技术对氧化钇稳定四方相氧化锆多晶陶瓷力学行为及其与树脂水门汀粘接强度的影响。方法:制作氧化钇稳定四方相氧化锆多晶陶瓷试件并随机分为4组:A组,表面不做任何处理;B组,110μm氧化铝颗粒喷砂;C组,上釉+氢氟酸酸蚀;D组,上釉+氢氟酸酸蚀+硅烷化。检测每组试件的表面显微形貌、粗糙度、晶相结构、元素组成、剪切粘接强度和弯曲强度,并观察剪切粘接强度测试后所有断面的断裂模式。结果与结论:①经表面处理后的试件粗糙度明显增大,降序排列依次为C组(0.62±0.01)μm、D组(0.55±0.02)μm、B组(0.11±0.02)μm、A组(0.05±0.01)μm,5组间粗糙度比较差异有显著性意义(P<0.05);②B组试件表面含有2.2%单斜相氧化锆,而其他组含量均为零;③除锆和氧2种元素外,B组还含有铝元素6.49%,C和D组分别含有硅元素18.67%和25.78%;④A、B、C、D组的剪切粘接强度分别为(3.11±0.40),(4.23±0.45),(6.62±0.60),(10.46±0.83)MPa,组间两两比较差异均有显著性意义(P<0.05);⑤A、B、C和D组的三点弯曲强度分别为(961.07±75.53),(1234.73±114.09),(1024.28±120.51),(1036.09±80.10)MPa,其中A、C和D组两两比较差异无显著性意义(P>0.05),B组与A、C、D组比较差异有显著性意义(P<0.05);⑥结果表明,上釉技术未明显提升氧化钇稳定四方相氧化锆多晶陶瓷的弯曲强度,但上釉后经氢氟酸蚀刻并硅烷化处理可显著增强氧化钇稳定四方相氧化锆多晶陶瓷与树脂水门汀之间的粘接强度。

上釉对IPS e.max全瓷修复体颜色及透射率的影响

目的：探讨上釉对IPS e.max全瓷修复体颜色及透射率的影响。方法：将IPS e.max铸瓷材料制作成厚度为2.0mm、直径为15mm的圆盘状试件,测量其颜色及透射率后继续常规上釉、烧结,再次测量其颜色参数及透射率。结果：上釉后IPS e.max全瓷修复体的a~＊、b~＊值增大,L~＊值、TP值无明显变化,上釉前后的色差ΔE小于1.5,透射率较上釉前有所降低。结论：上釉使IPS e.max全瓷修复体的色调偏向黄红,透射率呈降低趋势。

表面抛光和上釉对Y-TZP全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响

目的研究表面抛光和上釉处理对氧化锆全瓷表面粗糙度及磨耗性能的影响。方法制作氧化锆全瓷试件18个,随机分成3组,每组6个,第一、第二组分别进行表面抛光、上釉,第三组不处理。测量各组表面粗糙度(Ra)值,并通过磨耗实验,以天然牙釉质为对照组,计算各组试件磨耗实验后自身及对磨滑石瓷的体积损失量。结果抛光、上釉、未处理组的表面粗糙度值分别为(0.358±0.020)、(0.384±0.011)、(1.597±0.068)μm,抛光、上釉组均小于未处理组(P<0.01),抛光组和上釉组无统计学差异(P>0.05)。被测试件磨耗后体积损失量均小于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01)。各组的对磨滑石瓷体积损失量均大于天然牙(P<0.01),其中抛光组小于上釉组(P<0.01)。结论上釉和抛光氧化锆全瓷表面能达到同样的光滑度。抛光氧化锆全瓷表面对对颌牙釉质的磨耗量及自身的磨耗量均小于上釉表面。

全瓷冠二次分离上釉法的临床应用

氧化锆是一种新型的修复材料,具有耐高温、生物相容性好等优点[1]。玻璃陶瓷的最大特点是半透性,但对于重度着色牙比如四环素牙或氟斑牙的修复,玻璃陶瓷很难有效遮盖基牙的颜色。特殊牙色的患者临床上常用比色板牙色范围覆盖不足[2],故在烤瓷冠制作完成后,现场对照天然牙的颜色进行最终染色至关重要。E.max瓷粉属于低温瓷粉,烧结温度为750℃,其上釉需要使用釉液、釉膏同时混合外染色颜料完成。但此方法经过大量实践证明存在一些缺陷,例如重度着色牙染色细小纹路不易绘制精准,或釉质光泽度仿真效果欠佳等。

抛光和上釉对陶瓷表面粗糙度、挠曲强度及磨损性能的影响

陶瓷以其逼真的颜色和理想的强度等特征一直作为口腔修复的重要材料。而冠、桥初戴通常需要进行咬合调整,使上釉的瓷表面遭到破坏,抛光和重新表面上釉是临床常用的表面处理方法。学者们对不同瓷的抛光效果及抛光和上釉对陶瓷的影响进行了大量的研究,本文就此作一综述。

上釉对B、C色系IPS e.max LT底层材料相对透明率的影响

目的评估上釉对B、C色系IPS e.max LT底层材料相对透明率的影响。方法制备IPS e.max LT盘状底层材料试样,厚度分别为0.3 mm和0.5 mm,按色号分为B1、B2、B3、B4、C1、C2、C3、C4组,共16组,每组5个。分别在其表面涂饰颜色与底层材料相同的牙本质瓷,涂饰瓷层厚度均保持为0.3 mm。然后在所制备的试样表面上釉瓷,放置于铸瓷炉内高温烧结。在试样上釉前后,分别使用分光测色计对其相对透明率进行测定,统计学分析。结果 B、C色系底层材料在上釉前后,底层材料的厚度对相对透明率有显著性影响(P<0.05),相同颜色的0.6 mm组试样的相对透明率在上釉前后均低于0.8 mm组(P<0.05),B色系底层材料上釉对于0.6 mm组相对透明率差异有统计学意义(P<0.05),上釉后各组相对透明率下降。除了B4组外B色系底层材料上釉对于0.8 mm试样组的相对透明率差异无统计学意义。对于C色系,除了C3组外,上釉对于0.6 mm厚度的试样相对透明率差异有统计学意义(P<0.05),上釉前各组相对透明率均大于上釉后。而对0.8 mm厚度的底层材料C1组和C4组上釉对于相对透明率差异有统计学意义(P<0.05),而C2和C3组则差异无统计学意义。结论合理调节瓷层的总厚度,控制底层材料和饰瓷的厚度比,利于全瓷修复体与天然牙的颜色和相对透明率的匹配;通过上釉能够提高全瓷修复体的透明度,改善其美学效果。

盐酸在改善釉浆上釉工艺性能中的应用

选择氢浓度很高的电解质——盐酸作调节剂,通过它来调节釉浆的pH值,进而达到调节釉浆粘度的目的,对解决坯件上釉后釉面发黄、花釉、釉层薄厚不均等缺陷具有明显的作用。

抛光及上釉对氧化锆全冠与釉质间磨耗性能的影响

目的研究抛光、上釉和抛光后上釉对氧化锆全冠与釉质间表面粗糙度和磨耗性能的影响。方法将氧化锆全冠试件分为抛光组、上釉组和抛光后上釉组,每组各8个试件。釉质组为对照组。将新鲜拔除的上颌第三磨牙近中颊尖作为对颌牙。用表面粗糙度分析这三种处理方法对氧化锆全冠表面粗糙度的影响。通过磨耗试验观察这三种方法处理后的氧化锆全冠表面对釉质的磨耗。结果表面粗糙度从小到大为抛光氧化锆全冠、抛光后上釉氧化锆全冠、上釉氧化锆全冠和釉质。对于瓷面而言,抛光氧化锆全冠磨耗最少;对于对颌釉质而言,抛光组釉质磨耗最少。结论抛光组氧化锆全冠对釉质磨耗最小,氧化锆全冠表面粗糙度可帮助诊断其对对颌釉质的磨耗量。

上釉和抛光后口腔陶瓷材料力学性能改变的研究进展

口腔陶瓷修复材料在试戴过程中或粘固后需要进行调磨,导致修复体表面遭受破坏,粗糙度增加,强度降低,力学性能发生改变。重新上釉和抛光可降低修复体表面粗糙度,恢复其光滑的表面形貌,是目前通用的陶瓷修复体表面处理方法。上釉和抛光通过降低玻璃陶瓷表面粗糙度提高其力学性能(弯曲强度、硬度、断裂韧性),并且抛光的增强效果优于上釉。上釉和抛光后氧化锆陶瓷弯曲强度和断裂韧性均得以提高,学者们意见较为一致;但对硬度的改变存在争议,有学者认为硬度是氧化锆固有特性,表面处理不会改变其硬度,另有研究认为上釉和抛光通过减少表面裂纹增加氧化锆硬度。

氨水作为添加剂在改善白釉上釉工艺性能中的应用

氨水作为添加剂调节釉浆粘度和流动性能，对解决坯件上釉后釉面堆釉、花釉等缺陷具有明显效果。

500kV户外耐污型棒形瓷绝缘子上釉上砂工艺改进

对500kV户外耐污棒形瓷绝缘子主体杆径开裂现象进行了分析,认为采用卧式淋釉法上釉上砂工艺,坯体受力复杂,对坯体的破坏较严重。采用悬挂式喷釉法上釉上砂工艺,制定了各项工艺参数,釉浆水分控制在30%～35%,坯体转速应为60r/min～80r/min,釉浆温度在60℃～90℃,坯体温度在40℃～60℃,釉层厚度为0.3 mm～0.5 mm,釉浆压力为0.3MPa～0.5MPa。消除了500kV户外耐污型棒形操作瓷绝缘子主体杆径开裂现象。

谈上釉玻化砖

谈上釉玻化砖郭莉娥（江西省陶瓷研究所·景德镇·３３３００１）王勇（深圳宝明陶瓷制品有限公司·５１８１０６）１引言近年来，随着建筑陶瓷行业的迅猛发展，上釉瓷砖的产量持续增长，这就为研究如何提高产品的外观质量（在确保内在质量的基础上）奠定了良好的基础。...

机器人陶瓷上釉工作站设计与实现

为了降低人工陶瓷上釉强度、提高陶瓷产品生产效率,针对陶瓷自动化上釉作业设计了一套机器人陶瓷上釉工作站。该工作站主要由釉水循环流动系统、陶瓷擦底输送机、花盆及碟子输送搬运装置等组成。工作站在陶瓷上釉通过了现场实际生产验证,结果证明:工作站布局合理,人工操作便捷,生产节拍效率可以满足要求,可以实现陶瓷上釉工序的“机器换人”。