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不同厚度分层沉积对多层NiFeCo/Ag薄膜GMR效应的影响
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作者 何玉定 李健 +1 位作者 胡社军 谢光荣 《真空》 CAS 北大核心 2005年第2期34-37,共4页
用射频磁控溅射法制备了调制周期分别为5nm、10nm、15nm、20nm的NiFeCo/Ag非连续多层膜。用俄歇能谱仪测量薄膜的成分,用原子力显微镜观测NiFeCo膜层及Ag膜层的表面形貌,用四探针法测量了溅射态的及在280℃、360℃、400℃退火后的多层膜... 用射频磁控溅射法制备了调制周期分别为5nm、10nm、15nm、20nm的NiFeCo/Ag非连续多层膜。用俄歇能谱仪测量薄膜的成分,用原子力显微镜观测NiFeCo膜层及Ag膜层的表面形貌,用四探针法测量了溅射态的及在280℃、360℃、400℃退火后的多层膜的GMR值。结果表明:薄膜厚度越大,NiFeCo膜层及Ag膜层的表面粗糙度越大。在经各种不同温度退火后,具有[NiFeCo(10nm)/Ag(10nm)]×20结构的多层膜的GMR效应均比其它结构的多层膜的GMR效应强。退火温度也会影响多层膜的GMR值。经360℃退火后,在79.6kA/m的外加饱和场下[NiFeCo(10nm)/Ag(10nm)]×20呈现出最强的巨磁电阻效应,其GMR值达到11%。 展开更多
关键词 不同厚度分层 GMR NiFeCo/Ag多层膜
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