磁共振成像系统中梯度线圈设计的一种新的长度约束方案

目的 针对磁共振成像系统中长度约束的梯度线圈设计 ,寻求一种新的方案 ,使其能代替原有的方法 ,并且可以设计用于头部成像的不对称短线圈。方法 本文在目标场方法的基础上 ,引入了流函数约束条件 ,从而提出了流函数约束方案。并在该方案的基础上提出了一种简单的不对称短梯度线圈设计方案。结果 文中分别对直径 3 2cm ,长径比 1.5∶1的对称和不对称横向梯度线圈进行了仿真设计 ,结果显示了该方案的有效性。结论 文中比较了对称和不对称线圈梯度均匀区的位置 ,结果显示后一种线圈适合头部成像而前一种不适合。