直接形成不连续铜膜的硅金属诱导晶化

为发展低成本的多晶硅薄膜太阳能电池,采用磁控溅射技术,通过选择不同极性的表面和改变衬底温度,在普通钠钙玻璃衬底上直接形成了不连续的金属铜薄膜。以该薄膜作为诱导金属,在高温真空条件下对磁控溅射的非晶硅薄膜实现了固相金属诱导晶化。根据X射线衍射仪和拉曼位移光谱仪的测试结果,诱导晶化产生硅薄膜的晶粒尺寸约56 nm,晶化率达到84%。