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丝网印刷工艺制备高T_c Ba-Y-Cu氧化物超导厚膜
1
作者
孟广耀
保广文
+5 位作者
彭定坤
王军
徐力
杨萍华
付佩珍
张裕恒
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第1期47-52,共6页
本文报道以化学共沉淀法制备 Ba-Y-Cu 氧化物粉料,用丝网漏印技术在兰宝石晶体和氧化铝陶瓷衬底号印刷成膜,经多段温度下的热处理,获得超导转变温度>90K、零电阻温度达84K 以上的超导材料膜。膜层厚度一般为20~50μm。扫描电镜观测...
本文报道以化学共沉淀法制备 Ba-Y-Cu 氧化物粉料,用丝网漏印技术在兰宝石晶体和氧化铝陶瓷衬底号印刷成膜,经多段温度下的热处理,获得超导转变温度>90K、零电阻温度达84K 以上的超导材料膜。膜层厚度一般为20~50μm。扫描电镜观测表明,材料层致密、气孔很少。时效试验表明膜层超导电性相当稳定。该技术为超导材料膜的器件应用提供了一条途径。
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关键词
氧化物
超导体
厚膜
丝网漏印术
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职称材料
题名
丝网印刷工艺制备高T_c Ba-Y-Cu氧化物超导厚膜
1
作者
孟广耀
保广文
彭定坤
王军
徐力
杨萍华
付佩珍
张裕恒
机构
中国科技大学材料科学与工程系
中国科技大学物理系
中国科技大学结构成份分析中心
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第1期47-52,共6页
文摘
本文报道以化学共沉淀法制备 Ba-Y-Cu 氧化物粉料,用丝网漏印技术在兰宝石晶体和氧化铝陶瓷衬底号印刷成膜,经多段温度下的热处理,获得超导转变温度>90K、零电阻温度达84K 以上的超导材料膜。膜层厚度一般为20~50μm。扫描电镜观测表明,材料层致密、气孔很少。时效试验表明膜层超导电性相当稳定。该技术为超导材料膜的器件应用提供了一条途径。
关键词
氧化物
超导体
厚膜
丝网漏印术
Keywords
Silk screen process
Thick film
High T_c oxide superconductor
分类号
TM262 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
丝网印刷工艺制备高T_c Ba-Y-Cu氧化物超导厚膜
孟广耀
保广文
彭定坤
王军
徐力
杨萍华
付佩珍
张裕恒
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989
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