串联真空开关磁场调控对动态电压分布影响研究

为揭示串联真空开关磁场调控机理,得到串联真空开关的磁场调控需求与目标,对比分析纵向磁场(axial magnetic field,AMF)和径向磁场(radical magnetic field,RMF)调控机理,综合串联真空开关的协同效应,初步得到AMF调控适用于串联真空开关。搭建双断口真空开关AMF调控试验研究平台,通过外加磁场调控系统实现AMF时刻、强度、脉宽可调,进行不同AMF调控组合对动态电压分布的影响研究,以动态电压分布为调控目标,在电流为10kA时,最佳的磁场强度为150mT。试验结果表明;同步AMF更适用于串联真空开关,其机理是AMF调控使得各个断口零区及弧后特性基本一致,进而降低了弧后不平衡电弧注入均压电容引起的不平衡电压。因此,串联真空开关磁场调控的目标是实现动态电压分布与动态绝缘的协同效应。

非同期磁场调控对串联真空开关动态电压分布影响研究

以前的研究表明多断口断路器同期磁场调控可以改善动态电压分布,但对于非同期磁场调控的研究较少。为寻找更好的多断口串联真空开关磁场调控方法,并探究其调控机理,本文在Maxwell中对亥姆霍兹线圈进行仿真,分析其磁场分布情况并验证可用性。搭建了双断口真空开关外加磁场实验平台,实验时,以动态电压分布为调控目标,调节两组触头各自外加磁场的施加时刻,对比7组不同磁场施加时刻组合方式下动态电压分布结果,得到了两组触头分别在不同时刻施加磁场对动态电压分布的影响规律和实验条件下最好的调控方案。该研究结果为串联真空灭弧室设计及多断口真空开关磁场调控提供了参考依据。