多晶硅还原炉内主要残留物及清理工艺

多晶硅这种类型的产品,在自身质量这方面,会提出相对较高的要求,在进行实际生产时,还原炉工作完一个周期,它的内部表层普遍会有Si等一系列污垢的残存。通过探究讨论得出,能够将Na OH溶液当作清洗液进行使用,同时要按照残存物在其中的具体分布状况,对还原炉当中的基盘及钟罩这两个部位,分开使用固定的清理工艺对其残存物进行处理,可以让高纯度的多晶硅在进行生产时,在其洁净方面提出的要求得到充分的满足。