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氟化辅助电热蒸发/ICP-AES直接测定氧化铝粉末中痕量杂质钇 被引量:3
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作者 常钢 彭天右 +1 位作者 江祖成 胡斌 《分析科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期270-274,共5页
报道了以聚四氟乙烯 ( PTFE)悬浮体为氟化剂 ,悬浮体制样 /氟化辅助电热蒸发 ( ETV) /ICP- AES直接测定两种 Al2 O3粉末样品中痕量杂质钇。考察了影响基体和待测元素蒸发过程的各种因素 ;对比研究了待测元素和基体的氟化蒸发行为。在优... 报道了以聚四氟乙烯 ( PTFE)悬浮体为氟化剂 ,悬浮体制样 /氟化辅助电热蒸发 ( ETV) /ICP- AES直接测定两种 Al2 O3粉末样品中痕量杂质钇。考察了影响基体和待测元素蒸发过程的各种因素 ;对比研究了待测元素和基体的氟化蒸发行为。在优化实验条件下 ,方法的检出限为 0 .1 μg/g,相对标准偏差为 5 .6% ( n=5 ,c =8g/L悬浮体 )。并与溶样法气动雾化 ( PN) - ICP- AES的分析结果进行了对比。本法简便、灵敏、无需任何化学前处理 。 展开更多
关键词 氟化电热蒸发 乳浮体制样 ICP-AES 氧化铝粉末 陶瓷 痕量分析 聚四氟乙烯
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