以高性价比颗粒硅带为衬底多晶硅薄膜的二次引铝低温制备法

本文报道了在廉价的颗粒硅带上用PECVD法并两次引入铝的工艺制备多晶硅薄膜。第一次引入铝是为了去除薄膜上过多的杂质 ;第二次引入铝是为了实现低温诱导结晶。通过对薄膜样品的拉曼谱和X射线衍射 (XRD)谱分析 ,我们认为金属低温诱导结晶成功与否跟诱导前薄膜的结构密切相关。采用该工艺成功地制备了结晶度 92 %左右、可应用于太阳能电池的高纯优质多晶硅薄膜。