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陶瓷-金属封接二次金属化研究
被引量:
1
1
作者
何晓梅
刘慧卿
+3 位作者
王晓宁
赵崇霞
张静
丁一牧
《真空电子技术》
2017年第5期51-54,83,共5页
本文采用显微结构的分析方法和性能测试手段,以二次金属化层为研究对象开展工艺试验,对陶瓷-金属封接工艺进行了新的探讨。分析结果表明采用电镀Cu作为二次金属化层方案是可行的,并且提出了取消二次金属化层的建议。
关键词
显微结构分析
性能测试
陶瓷-
金属
封接
二次金属化层
下载PDF
职称材料
题名
陶瓷-金属封接二次金属化研究
被引量:
1
1
作者
何晓梅
刘慧卿
王晓宁
赵崇霞
张静
丁一牧
机构
北京真空电子技术研究所
出处
《真空电子技术》
2017年第5期51-54,83,共5页
文摘
本文采用显微结构的分析方法和性能测试手段,以二次金属化层为研究对象开展工艺试验,对陶瓷-金属封接工艺进行了新的探讨。分析结果表明采用电镀Cu作为二次金属化层方案是可行的,并且提出了取消二次金属化层的建议。
关键词
显微结构分析
性能测试
陶瓷-
金属
封接
二次金属化层
Keywords
Microstructure analysis
Performance test
Ceramic-metal sealing
Second metalizing layer
分类号
TB756 [一般工业技术—真空技术]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
陶瓷-金属封接二次金属化研究
何晓梅
刘慧卿
王晓宁
赵崇霞
张静
丁一牧
《真空电子技术》
2017
1
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职称材料
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引证文献
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