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陶瓷-金属封接二次金属化研究 被引量:1
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作者 何晓梅 刘慧卿 +3 位作者 王晓宁 赵崇霞 张静 丁一牧 《真空电子技术》 2017年第5期51-54,83,共5页
本文采用显微结构的分析方法和性能测试手段,以二次金属化层为研究对象开展工艺试验,对陶瓷-金属封接工艺进行了新的探讨。分析结果表明采用电镀Cu作为二次金属化层方案是可行的,并且提出了取消二次金属化层的建议。
关键词 显微结构分析 性能测试 陶瓷-金属封接 二次金属化层
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