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镀覆孔内镀铜异常原因分析与改善
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作者 谢慈育 宗高亮 +2 位作者 王扩军 李得志 冉光武 《印制电路信息》 2021年第11期31-34,共4页
文章针对PCB图形电镀工序二次铜电镀出现的通孔孔内铜异常,通过对各种影响因素的对比试验,得出了产生通孔电镀铜异常的影响因素,为二次铜电镀过程中出现的通孔镀铜异常提供改善和预防措施。
关键词 图形电镀 二次镀铜 镀铜异常
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