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镀覆孔内镀铜异常原因分析与改善
1
作者
谢慈育
宗高亮
+2 位作者
王扩军
李得志
冉光武
《印制电路信息》
2021年第11期31-34,共4页
文章针对PCB图形电镀工序二次铜电镀出现的通孔孔内铜异常,通过对各种影响因素的对比试验,得出了产生通孔电镀铜异常的影响因素,为二次铜电镀过程中出现的通孔镀铜异常提供改善和预防措施。
关键词
图形电镀
二次镀铜
镀铜
异常
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职称材料
题名
镀覆孔内镀铜异常原因分析与改善
1
作者
谢慈育
宗高亮
王扩军
李得志
冉光武
机构
深圳市板明科技股份有限公司
出处
《印制电路信息》
2021年第11期31-34,共4页
文摘
文章针对PCB图形电镀工序二次铜电镀出现的通孔孔内铜异常,通过对各种影响因素的对比试验,得出了产生通孔电镀铜异常的影响因素,为二次铜电镀过程中出现的通孔镀铜异常提供改善和预防措施。
关键词
图形电镀
二次镀铜
镀铜
异常
Keywords
Pattern Platting
Copper Platting
Fail-Electrodeposition
Through-Hole
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
发文年
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1
镀覆孔内镀铜异常原因分析与改善
谢慈育
宗高亮
王扩军
李得志
冉光武
《印制电路信息》
2021
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