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多晶Al_2O_3薄膜的制备及工艺研究 被引量:7
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作者 刘建 杨东 《真空与低温》 2001年第4期204-206,240,共4页
高能氩离子束溅射金属铝靶 ,沉积在SiO2 基片上的非晶薄膜是Al和Al2 O3的混合物。非晶薄膜在空气中 80 0~ 10 0 0℃退火后将完全氧化并晶化而成γ -Al2 O3、∝ -Al2 O3。对溅射镀膜的工艺条件也进行了探索。
关键词 AL2O3薄膜 溅射 退火 氧化 非晶薄膜 镀膜工艺 二氧化硅基片 制备
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Three-dimensional Ordered Silica Colloidal Film Self-assembly Deposited on a VerticalSubstrate 被引量:2
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作者 刘丽霞 董鹏 +1 位作者 王晓冬 程丙英 《Chinese Journal of Chemical Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 2003年第6期751-754,共4页
A method for preparation of particle crystal film constructed from monodisperse silica colloidal particles in diameter of about 300 nm is reported. The films were prepared from an ethanol suspension by vertical deposi... A method for preparation of particle crystal film constructed from monodisperse silica colloidal particles in diameter of about 300 nm is reported. The films were prepared from an ethanol suspension by vertical deposition that relies on capillary forces to assemble colloidal crystal particles on a vertical substrate. The 3D ordered films were characterized by transmission spectra and scanning electric microscope (SEM). The effect of evaporation temperature, particle concentration and sintered temperature on the quality of colloidal particle crystal film was investigated. 展开更多
关键词 colloidal Silica SELF-ASSEMBLE vertical deposition colloidal crystal
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溶胶-凝胶法制备SiO_2基片Er^(3+)∶Al_2O_3光学薄膜 被引量:4
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作者 王兴军 杨涛 +1 位作者 王晶 雷明凯 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期397-400,共4页
用溶胶凝胶法在SiO2 基片上提拉制备了掺Er3 + ∶Al2 O3 光学薄膜。采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、差热热重分析仪、X射线衍射仪研究了掺Er3 + ∶Al2 O3 光学薄膜的形貌和结构特性。在 90 0℃烧结后 ,SiO2 基片上提拉 15次形成厚... 用溶胶凝胶法在SiO2 基片上提拉制备了掺Er3 + ∶Al2 O3 光学薄膜。采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、差热热重分析仪、X射线衍射仪研究了掺Er3 + ∶Al2 O3 光学薄膜的形貌和结构特性。在 90 0℃烧结后 ,SiO2 基片上提拉 15次形成厚度 8μm掺摩尔比 0 .0 1Er3 + 的面心立方结构γ Al2 O3 薄膜具有明显 (110 )择优取向 ,掺摩尔比 0 .0 1Er3 + 对γ Al2 O3 的晶体结构和结晶生长过程未产生显著影响。薄膜具有均匀多孔结构 ,平均粒径为 30~ 10 0nm ,平均孔径为 5 0~ 10 0nm ,表面起伏度为 10~ 2 0nm。掺摩尔比 0 .0 1Er3 + ∶γ Al2 O3 薄膜 ,获得了中心波长为1.5 34μm(半峰全宽为 36nm)的光致发光谱。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 二氧化硅基片 铒离子掺杂 氧化二铝薄膜 晶体结构 结晶生长
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基于紫外光直写技术制作波导布拉格光栅的方法
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作者 吴亚明 李明 +1 位作者 崔丽萍 李四华 《科技开发动态》 2005年第4期44-44,共1页
该专利是一种基于紫外光直写技术制作波导布拉格光栅的方法。其特征是:采用掺杂锗的二氧化硅基片,利用集成电路工艺在SiO2基片上镀制一层掩模薄膜,并进行光刻,用腐蚀工艺制作出波导布拉格光栅的掩模图形,再利用紫外光源在二氧化硅... 该专利是一种基于紫外光直写技术制作波导布拉格光栅的方法。其特征是:采用掺杂锗的二氧化硅基片,利用集成电路工艺在SiO2基片上镀制一层掩模薄膜,并进行光刻,用腐蚀工艺制作出波导布拉格光栅的掩模图形,再利用紫外光源在二氧化硅基片表面上照射,使得二氧化硅基片的掺锗的波导芯层发生光学折射率变化,从而制作出波导布拉格光栅。 展开更多
关键词 布拉格光栅 技术制作 波导 二氧化硅基片 集成电路工艺 折射率变化 SIO2 工艺制作 紫外光源 再利用 掩模 掺杂 光刻 掺锗
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Surface modification toward luminescent and stable silica-coated quantum dots color filter 被引量:2
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作者 Bingxin Zhao Xiaoli Zhang +9 位作者 Xue Bai Hongcheng Yang Shang Li Junjie Hao Haochen Liu Rui Lu Bing Xu Liduo Wang Kai Wang Xiao Wei Sun 《Science China Materials》 SCIE EI CSCD 2019年第10期1463-1469,共7页
A highly pixelated and luminescent silica-coated quantum dot color filter(QDCF)was achieved by surface conjugation with epoxy functional group.Epoxy-functionalized silica-coated quantum dots(QDs)can be thoroughly mixe... A highly pixelated and luminescent silica-coated quantum dot color filter(QDCF)was achieved by surface conjugation with epoxy functional group.Epoxy-functionalized silica-coated quantum dots(QDs)can be thoroughly mixed with SU-8 photoresist up to 25 wt.%without aggregation.The quantum yield(QY)of the silica-coated QDCF can be significantly improved from 19.3%to 36.5%after epoxy treatment.The pristine QDCF experienced a 40%QY decrease,while the epoxied silica-coated QDCF maintained its luminescence even after irradiation(300 mW cm 2@450 nm)for over 25 days.The well-controlled epoxy cap plays a critical role in attaining the ideal optical properties of the QDCF. 展开更多
关键词 quantum dot silica coating color filter ligand exchange
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