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镀膜技术及设备
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《中国光学》 EI CAS 1996年第4期71-72,共2页
O484.1 96042591SiO<sub>2</sub>薄膜的制备方法与性质=The influence ofoxygen partial pressure on the properties ofSiO<sub>2</sub> thin films[刊,中]/陈立春,姚健铨(天津大学精密仪器系.天津(300072)... O484.1 96042591SiO<sub>2</sub>薄膜的制备方法与性质=The influence ofoxygen partial pressure on the properties ofSiO<sub>2</sub> thin films[刊,中]/陈立春,姚健铨(天津大学精密仪器系.天津(300072)),王向军,徐叙瑢(天津理工学院材料物理研究所. 展开更多
关键词 二维气敏光学薄膜 光学 制备方法 制备工艺 精密仪器 物理研究所 镀膜技术 溶胶凝胶法 理工学院 天津大学
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