计算机硬盘微晶玻璃基板抛光研究

计算机硬盘微晶玻璃基板的微观结构性能与化学成分都不连续，显微硬度非常高（900kg／mm^2～1000kg／mm^2），难以获得亚纳米级光滑表面。讨论了微晶玻璃基板结构性能、抛光机理、抛光工艺条件等因素对抛光效果的影响。结果表明，硬盘微晶玻璃基板的结晶相颗粒大小、玻璃相与结晶相的比例都会影响抛光表面质量；化学机械抛光引起玻璃相的优先抛除，该作用机理不适宜于微晶玻璃基板抛光。工艺条件中压力对微晶玻璃基板的表面粗糙度影响最大，抛光中需要维持合适的压力。选取合适的抛光条件，最终获得了粗糙度为0．208nm（AFM：5μm×5μm）的光滑表面。