期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
基于DMD无掩膜光刻快速制作亲疏水图案化表面
1
作者
陈鹏
李木军
《新技术新工艺》
2020年第9期21-27,共7页
亲疏水图案化表面在表面张力限制的微流控技术中能够发挥显著作用。常见的方法在制作表面的微图案时都需要实物掩模版,这类方法不具备灵活调节制造亲疏水表面微图案的形状与尺寸的能力,并且因制作掩膜而导致制作成本和时间成本都很高。...
亲疏水图案化表面在表面张力限制的微流控技术中能够发挥显著作用。常见的方法在制作表面的微图案时都需要实物掩模版,这类方法不具备灵活调节制造亲疏水表面微图案的形状与尺寸的能力,并且因制作掩膜而导致制作成本和时间成本都很高。因此,提出了基于DMD无掩膜光刻技术快速制作亲疏水图案化表面的方法并可用于自组装微液滴阵列。该方法利用DMD无掩膜曝光系统进行加工,一步成型地完成了亲疏水图案化表面的疏水处理和微图案化处理。这种方法无需实物掩模,能够灵活调控加工表面疏水图案的形状与尺寸,工艺简单快捷,降低了制作成本。
展开更多
关键词
DMD芯片
无掩膜光刻技术
数字掩膜
光敏树脂
亲疏水图案化表面
微液滴阵列
下载PDF
职称材料
题名
基于DMD无掩膜光刻快速制作亲疏水图案化表面
1
作者
陈鹏
李木军
机构
中国科学技术大学精密机械与精密仪器系
出处
《新技术新工艺》
2020年第9期21-27,共7页
基金
国家自然科学基金资助项目(51475442)。
文摘
亲疏水图案化表面在表面张力限制的微流控技术中能够发挥显著作用。常见的方法在制作表面的微图案时都需要实物掩模版,这类方法不具备灵活调节制造亲疏水表面微图案的形状与尺寸的能力,并且因制作掩膜而导致制作成本和时间成本都很高。因此,提出了基于DMD无掩膜光刻技术快速制作亲疏水图案化表面的方法并可用于自组装微液滴阵列。该方法利用DMD无掩膜曝光系统进行加工,一步成型地完成了亲疏水图案化表面的疏水处理和微图案化处理。这种方法无需实物掩模,能够灵活调控加工表面疏水图案的形状与尺寸,工艺简单快捷,降低了制作成本。
关键词
DMD芯片
无掩膜光刻技术
数字掩膜
光敏树脂
亲疏水图案化表面
微液滴阵列
Keywords
DMD chips
maskless lithography technology
digital mask
photosensitive resin
hydrophilic-hydrophobic patterned surfaces
microdroplet arrays
分类号
TH703 [机械工程—精密仪器及机械]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于DMD无掩膜光刻快速制作亲疏水图案化表面
陈鹏
李木军
《新技术新工艺》
2020
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部