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准分子激光晶化制备TFT多晶硅薄膜的研究进展
被引量:
5
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作者
言益军
戴永兵
+1 位作者
王俊
孙宝德
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期70-74,共5页
对准分子激光晶化制备TFT用多晶硅薄膜的研究进展进行了综述。介绍了晶化过程中的超级横向生长现象。主要结合各种基于光束调制和光刻技术的人工控制超级横向生长方法,讨论了获得大晶粒尺寸优质多晶硅薄膜的途径。
关键词
TFT
多晶硅薄膜
准分子激光晶化
人工控制超级横向生长
下载PDF
职称材料
题名
准分子激光晶化制备TFT多晶硅薄膜的研究进展
被引量:
5
1
作者
言益军
戴永兵
王俊
孙宝德
机构
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期70-74,共5页
文摘
对准分子激光晶化制备TFT用多晶硅薄膜的研究进展进行了综述。介绍了晶化过程中的超级横向生长现象。主要结合各种基于光束调制和光刻技术的人工控制超级横向生长方法,讨论了获得大晶粒尺寸优质多晶硅薄膜的途径。
关键词
TFT
多晶硅薄膜
准分子激光晶化
人工控制超级横向生长
Keywords
Thin film transistor
Poly-silicon film
Excimer laser crystallization
Artificial controlled super lateral growth
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
准分子激光晶化制备TFT多晶硅薄膜的研究进展
言益军
戴永兵
王俊
孙宝德
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2006
5
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