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二维半导体材料中激子对介电屏蔽效应的探测及其应用 被引量:1
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作者 胡倩颖 许杨 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第12期118-132,共15页
二维过渡金属硫族化合物作为二维半导体材料领域研究的重要分支,凭借较强的光-物质相互作用和独特的自旋-谷锁定等特性,吸引了广泛而持久的关注.单层的二维过渡金属硫族化合物半导体具有直接带隙,在二维的极限下,由于介电屏蔽效应的减弱... 二维过渡金属硫族化合物作为二维半导体材料领域研究的重要分支,凭借较强的光-物质相互作用和独特的自旋-谷锁定等特性,吸引了广泛而持久的关注.单层的二维过渡金属硫族化合物半导体具有直接带隙,在二维的极限下,由于介电屏蔽效应的减弱,电荷间的库仑相互作用得到了显著的增强,其光学性质主要由紧密束缚的电子-空穴对—激子主导.本文简单回顾了近年来二维过渡金属硫族化合物光谱学的研究历程,阐述了栅压和介电环境对激子的调制作用,之后重点介绍了一种新颖的激子探测方法.由于激发态激子(里德伯态)的玻尔半径远大于单原子层本身的厚度,电子-空穴对之间的电场线得以延伸到自身之外的其他材料中.这使得二维半导体材料的激子可以作为一种高效的量子探测器,感知周围材料中与介电函数相关的物理性质的变化.本文列举了单层WSe_(2)激子在探测石墨烯-氮化硼莫尔(moiré)超晶格势场引发的石墨烯二阶狄拉克点,以及WS_(2)/WSe_(2)莫尔超晶格中分数填充的关联绝缘态中的应用.最后,本文展望了这种无损便捷、高空间分辨率、宽适用范围的激子探测方法在其他领域的潜在应用场景. 展开更多
关键词 过渡金属硫族化合物 激子 介电屏蔽 激子探测
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介电屏蔽体的光学电压互感器的电场仿真研究
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作者 严向坤 潘峰 +1 位作者 黄亚志 何云板 《黑龙江科技信息》 2014年第4期92-94,共3页
光学电压互感器是电子式电压互感器的一种类型,它相比传统电压互感器具有体积小,价格低廉,绝缘易实现等优点。利用分布式光学传感器测量高电压是光学电压互感器的研究方向之一。本文通过电磁场仿真软件对基于分布式传感器和介电屏蔽体... 光学电压互感器是电子式电压互感器的一种类型,它相比传统电压互感器具有体积小,价格低廉,绝缘易实现等优点。利用分布式光学传感器测量高电压是光学电压互感器的研究方向之一。本文通过电磁场仿真软件对基于分布式传感器和介电屏蔽体的光学电压互感器的模型进行了仿真。仿真结果表明:高介电常数的屏蔽体使互感器内部电场分布均匀,简化了互感器内部绝缘设计;屏蔽体能够减小外部杂散电场对电场测量的影响;屏蔽体和高斯积分算法相结合,能够大大提高光学电压互感器的测量准确度。 展开更多
关键词 光学压互感器 介电屏蔽 杂散 高斯积分算法
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纳米材料介电屏蔽型光学电压互感器设计
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作者 尹昌庆 杨耿煌 +2 位作者 湾世伟 湾晓文 董建 《天津职业技术师范大学学报》 2022年第1期1-6,I0002,共7页
针对光学电压互感器(OPT)的外界电场屏蔽和绝缘单元发热等问题,采用纳米复合介电屏蔽材料,设计了纳米材料介电屏蔽型电子式光学电压互感器(NOPT),消除或减弱外界杂散电场的干扰,实现了光学技术在外界杂散电场干扰的实际运行环境中高电... 针对光学电压互感器(OPT)的外界电场屏蔽和绝缘单元发热等问题,采用纳米复合介电屏蔽材料,设计了纳米材料介电屏蔽型电子式光学电压互感器(NOPT),消除或减弱外界杂散电场的干扰,实现了光学技术在外界杂散电场干扰的实际运行环境中高电压的精确测量,同时有效地将介电屏蔽结构的发热降低到允许范围。实验结果表明:该光学电压互感器的精度准确性和运行稳定性均符合国家光学电力互感器测量标准。 展开更多
关键词 光学压互感器(OPT) POCKELS效应 介电屏蔽 纳米材料
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光学电压互感器中采用高斯算法的误差分析 被引量:1
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作者 赵一男 张国庆 +3 位作者 郭志忠 申岩 于文斌 程嵩 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期580-586,共7页
光学电压互感器具有动态范围大、带宽宽、体积小、重量轻、成本低等优点,是传统互感器的最佳替代产品。针对应用于分布式光学电压互感器的高斯算法相对误差进行研究。虽然权函数的引入使得高斯积分算法具有较高的计算精度,但是权函数并... 光学电压互感器具有动态范围大、带宽宽、体积小、重量轻、成本低等优点,是传统互感器的最佳替代产品。针对应用于分布式光学电压互感器的高斯算法相对误差进行研究。虽然权函数的引入使得高斯积分算法具有较高的计算精度,但是权函数并不能完全反映干扰电场的作用,当存在外界干扰时,应用高斯算法计算电压存在一定的相对误差。为此,通过ANSOFT电磁场仿真软件对互感器干扰电场进行相应的仿真,分析了干扰接地平板和相间2种干扰所带来的相对误差,结果表明:对于接地平板干扰模型,干扰电场引起的高斯算法相对误差随平板距离的增大而减小;对于相间干扰模型,AC两相同时接电时对B相电压计算相对误差最大;具有较大相对介电常数的屏蔽材料可以极大改善轴向电场分布,屏蔽管相对介电常数为100时,在1 000mm距离的接地平板干扰以及相间干扰作用下,2点高斯积分方法的相对误差<1.5%。最后分析了屏蔽管尺寸对轴向电场的作用,发现屏蔽管环径较大可以改善电场分布,而屏蔽管内径则对轴向电场分布没有太大影响。 展开更多
关键词 高斯积分 分布式传感头 光学压互感器 数值积分 场优化 介电屏蔽
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常压非热等离子体源及其在纺织整理中的应用
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作者 V.Nehra S.Bhaumik +3 位作者 C.L.Mittal M.L.Gulrajani H.K.Dwivedi 钟毅 《国际纺织导报》 2005年第4期71-72,74,共3页
综述了常压介电屏蔽放电(DBD)产生的非热等离子体在纺织整理中的应用。描述了DBD在常压织物整理和等离子体化学中的许多潜在优势。DBD(无声放电)是一种非热等离子体放电,在较宽的温度和压力范围内操作简便。常压下,许多独立的细电流丝... 综述了常压介电屏蔽放电(DBD)产生的非热等离子体在纺织整理中的应用。描述了DBD在常压织物整理和等离子体化学中的许多潜在优势。DBD(无声放电)是一种非热等离子体放电,在较宽的温度和压力范围内操作简便。常压下,许多独立的细电流丝之间会发生电击穿,这些短暂的带有电子能量的微放电具有瞬时高压辉光放电性质,非常适合背景气体原子或分子的激发和离解。 展开更多
关键词 介电屏蔽 等离子体 纺织整理 常压介电屏蔽
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半导体技术
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《中国无线电电子学文摘》 1994年第6期33-42,共10页
关键词 半导体技术 量子阱 激子发光 激发功率 光致发光谱 介电屏蔽 场效应 发光带 华南理工大学学报 温度升高
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Enhanced photoresponsivity and hole mobility of MoTe_2 phototransistors by using an Al_2O_3 high-κ gate dielectric 被引量:5
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作者 Wenjie Chen Renrong Liang +2 位作者 Jing Wang Shuqin Zhang Jun Xu 《Science Bulletin》 SCIE EI CSCD 2018年第15期997-1005,共9页
Molybdenum ditelluride (MoTe2) has been demonstrated great potential in electronic and optoelectronic applications. However, the reported effective hole mobility remains far below its theoretical value. Herein, taki... Molybdenum ditelluride (MoTe2) has been demonstrated great potential in electronic and optoelectronic applications. However, the reported effective hole mobility remains far below its theoretical value. Herein, taking advantage of high-κ screening effect, we have fabricated back-gated MoTe2 transistors on an Al2O3 high-κ dielectric and systematically investigated the electronic and optoelectronic proper- ties. A high current on/off ratio exceeding 106 is achieved in the Al2O3-based MoTe2 transistors, and the hole mobility is demonstrated to be 150 cm2 V^-1 s^-1, compared to 0.2-20 cm^2 V^-1 s^-1 ever obtained from back-gated MoTe2 transistors in the literatures. Moreover, a considerable hole concentration of 1.2 × 10^13 cm 2 is attained in our Al2O3-based MoTe2 transistors owing to the strong gate control capa- bility, leading to a high on-state hole current of 6.1 μA μm^-1. After optimization, our Al2O3-based MoTe2 phototransistor exhibits outstanding photodetective performance, with a high responsivity of 543 AW^-1 and a high photogain of 1,662 at 405 nm light illumination, which are boosted around 419 times compared to the referential SiO2-based control devices. The mechanisms of photoconductivity in the Al2O3-based MoTe2 phototransistors have been analyzed in detail, and the photogating effect is considered to play an important role. This work may provide useful insight to improve carrier mobility in two-dimensional layered semiconductors and open opportunities to facilitate the development of high-performance photodetectors in the future. 展开更多
关键词 MoTe2 High-K dielectric PHOTOTRANSISTORS Hole mobility PHOTODETECTORS
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