1
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低介质常数材料的开发 |
洪雷萍
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《微电子技术》
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1995 |
0 |
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2
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高介电常数La_(2)O_(3)材料的制备方法及其介电性能研究进展 |
魏小茹
陈文杰
王锋
朱胜利
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《化工新型材料》
CAS
CSCD
北大核心
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2024 |
0 |
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3
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低介电常数介质薄膜的研究进展 |
王娟
张长瑞
冯坚
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《化学进展》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
6
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4
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作为高介电常数栅介质材料的LaErO_3薄膜热稳定性和电学性质的研究 |
张九如
殷江
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《南京大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
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2009 |
1
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5
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FIB参数对低介电常数介质TEM样品制备的影响 |
杨卫明
段淑卿
芮志贤
王玉科
郭强
简维廷
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《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
8
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6
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带电聚合电介质表面吸附理论研究 |
卢孟春
郑勇林
王晓茜
戴松晖
严刚峰
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《原子与分子物理学报》
CAS
CSCD
北大核心
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2013 |
0 |
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7
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行李箱材质对行李RFID识别效果影响的研究 |
朱志宇
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《物联网技术》
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2024 |
0 |
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8
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表征ULSI低介电常数互连材料机械特性的表面波频散特性 |
李志国
肖夏
张鑫慧
姚素英
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《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
4
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9
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HfO_2高k栅介质等效氧化层厚度的提取 |
陈勇
赵建明
韩德栋
康晋锋
韩汝琦
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《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
3
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10
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超薄HfO_2高K栅介质薄膜的软击穿特性 |
韩德栋
康晋锋
杨红
韩汝琦
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《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
3
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11
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高性能HfAlO介质薄膜的制备(英文) |
程新红
宋朝瑞
俞跃辉
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《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
2
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12
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HfO_2栅介质薄膜的结构和介电性质研究 |
程学瑞
戚泽明
张国斌
李亭亭
贺博
尹民
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《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
1
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13
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堆叠栅介质MOS器件栅极漏电流的计算模型 |
杨红官
朱家俊
喻彪
戴大康
曾云
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《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
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2007 |
1
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14
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HfO_2高K栅介质薄膜的电学特性研究 |
韩德栋
康晋锋
刘晓彦
韩汝琦
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《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
2
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15
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低k介质对CMOS芯片动态功耗的影响 |
王鹏飞
丁士进
张卫
王季陶
李伟
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《自然科学进展(国家重点实验室通讯)》
北大核心
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2001 |
5
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16
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HfO_2/TaON叠层栅介质Ge MOS器件制备及电性能研究 |
张雪锋
季红兵
邱云贞
王志亮
徐静平
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《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
1
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17
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超薄HfN界面层对HfO_2栅介质Ge pMOSFET电性能的改进 |
张雪锋
季红兵
邱云贞
王志亮
黄静
张振娟
徐静平
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《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
1
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18
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HfO_2/TaON叠层栅介质Ge pMOSFET制备及迁移率退化研究 |
张雪锋
季红兵
邱云贞
王志亮
陈云
张振娟
黄静
徐静平
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《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
0 |
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19
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45nm芯片铜互连结构低k介质层热应力分析 |
林琳
王珺
王磊
张文奇
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《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
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2017 |
3
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20
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碱性阻挡层抛光液中ULK介质抛光性能的研究 |
阳小帆
张保国
杨朝霞
李烨
李浩然
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《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
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2021 |
2
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