基于改进遗传算法的任意图形最大内接矩形求解

为了求解任意不规则图形最大内接矩形问题(MER问题),在建立MER优化数学模型的基础上,针对遗传算法收敛速度慢、无法处理模糊约束条件、容易陷入局部最优解等问题,引入惩罚函数法处理约束和评价个体适应度,提出了基于改进遗传算法的不规则图形MER模型求解方法,研究表明该方法能快速准确地确定不规则图形的最大内接矩形,可广泛地应用在目标特征提取、板材优化排样和皮革裁切中。

任意图形的打印问题

任意长宽比图形在标准图纸上打印时,存在着图纸空白区较大,图面不能充分利用这一实际问题,本文详细阐述这一问题的三种解决方法,并对三种方法的特点作了简要的比较与说明,以利于三种方法在实际工作中的选择与使用。

任意形状图形的灰度掩模图的设计系统研究

灰度掩模技术是制作三维微纳结构的有效方法之一,灰度掩模图设计是灰度掩模技术的重要组成部分.目前,在微机械器件制作领域中,通常只给出常用规则形状三维结构对应的灰度掩模图的设计方法,对于任意形状图形的灰度掩模图设计鲜有报道.本文综合灰度光刻技术中的编码原理和有限元法中的铺路法,提出了适合于任意形状图形的灰度掩模图设计算法,解决了误差处理和图形闭合两个关键问题,给出了算法及图形的评价方法,并利用AutoCAD二次开发工具ObjectARX研究了算法的程序实现,构建了灰度掩模图的设计系统.利用该系统设计了多幅常规规则形状和任意形状灰度掩模图,结果表明,该系统可以高效地设计任意形状图形的灰度掩模.研究工作为任意形状图形灰度掩模图的设计提供了一种新方法,可以提高灰度掩模图的设计效率,为三维微纳器件的制作提供技术积累.

原子束全息技术制作任意微细图形研究

从波粒二象性原理出发 ,研究了用氖原子束计算全息技术制作任意纳米结构的基本原理和方法 ,克服了用激光梯度场控制原子堆积 ,只能制作单一点、线等周期性纳米结构的不足。分析讨论了原子全息与光学全息的区别 ,指出只有经激光冷却的原子束才满足全息技术所要求的相干条件和衍射条件。最后采用罗曼Ⅲ型迂回位相编码方法设计了氖原子束计算全息片 。

任意形状宗地面积计算的新方法

本文对在地籍测量中特殊图形的面积计算方法作了探讨。

点阵式液晶字符反白和图形显示研究

本文采用以ST7920为控制器的YM12864R构成了自动监控型独立通气笼盒(Individually Ventilated Cages,IVC)系统的人机界面显示部分;给出了点阵液晶显示模块与单片机之间的硬件接口设计;介绍了液晶模块文本显示和绘图显示的基本特性及实现,并重点介绍了任意字符反白和任意位置任意大小图形显示的方法。