反应磁控溅射工艺中的滞后效应研究

研究了反应磁控溅射的动力学过程。理论分析与试验结果表明:反应气体流量随其压力的变化呈滞后效应,最佳镀膜工艺位于滞后区域。给出了金属靶阴极表面溅射清洗效果的伏安特性评价法,为克服"靶中毒"提供了有效的技术途径。