期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
玻璃衬底上中温制备多晶硅薄膜的量子态现象 被引量：1
1
作者 靳瑞敏 卢景霄 +2 位作者 冯团辉 王海燕 张丽伟 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期104-106,共3页
用PECVD法直接沉积的非晶硅(a-S i:H)薄膜用传统炉在中温退火,然后用拉曼光谱、XRD和SEM分析,发现晶粒大小随退火温度和退火时间呈现量子态现象。分析发现在传统炉中850℃下退火三个小时晶粒大小出现极大值,平均晶粒尺寸为30nm左右。
关键词 PECVD法 非晶硅薄膜 传统炉退火 量子态 晶粒大小
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部