4000TPI光刻伺服盘的工艺实践

利用光刻技术成功地制作了4000TPI(Tracks Per Inch)伺服盘.通过扫描电镜、振动样品测试仪及干涉仪检测结果证明,所研制了光刻伺服盘达到了设计要求.

4000TPI光刻伺服盘伺服录写设备的研究

分析了光刻伺服盘的光刻图形、伺服码型及伺服录写特征，并设计了４０００ＴＰＩ光刻面伺服系统的伺服录写设备．分析研究表明，光刻伺服系统能提高磁盘道密度。

用于光刻伺服盘电路调试的信号仿真器的设计

为满足光刻伺服磁盘驱动器电路调试的需要,本文设计了一种信号仿真器,由任意波形发生器和磁盘信号源库在相关软件的辅助下来仿真较为复杂的各类磁盘驱动器信号。同传统的函数发生器或用硬件来实现的信号仿真手段相比,其更具有适应性和灵活性。文中详细分析了仿真器的硬件结构和软件构造,并介绍了它在光刻伺服磁盘驱动器电路调试中的实际应用。

光刻伺服盘磁头读出信噪比分析

本文叙述了光刻伺服盘采用分离磁道刻写方法对信噪比的影响，该方法在磁盘记录区采用导磁材料，非记录区采用非导磁材料。这样一种非连续的记录磁介质，有利于道密度的提高，增大了磁盘信息存储容量，减少了道间串扰，提高了磁头读出的信噪比［以Ｓ／Ｎ表示］。

利用高频溅射刻蚀光刻伺服盘工艺参数的确定

光刻伺服盘是一种新的磁头伺服定位技术。本文分析了利用高频溅射法刻蚀光刻伺服盘的刻蚀机理,并对主要的刻蚀参数如溅射电压、气体压力等对刻蚀精度的影响作了比较详细的讨论。

光刻伺服盘两级定位器测试系统研究

本文从理论上对圆光栅的特性进行了分析及计算,设计出了光刻伺服磁盘两级定位系统位置传感器的执行机构,并采用AMS—200A型人射光干涉显微镜构成磁盘两级定位器定位精度测量系统,通过计算磁头在寻道和定道两个过程的驱动指令运行时间的总和来得到磁盘的平均找道时间,最后通过实验得到磁盘两级定位系统在平均找道时间为24.5ms时的定位精度为0.19μm。

光刻伺服盘检测

光刻伺服盘系统作为新一代的磁盘伺服定位技术研究成功,通过检测实验,其质量已达到设计要求.

光刻伺服盘媒体微细加工技术

阐述了光刻伺服盘媒体微细加工实验过程，分析了刻蚀工艺中影响磁盘光刻图形的不利因素，实践证明利用半导体微细加工技术光刻伺服盘，能大幅度提高磁道密度，增加磁盘驱动器的容量。

超微细加工及设备

T N305.7 95010634原子印章YAG激光雕刻机的研究=The study oflaser carving machine for seals[刊,中]/王又青,黄欣明,李万荣,李再光,孟广君(激光技术国家重点实验室.湖北,武汉(430074))(深圳市现代印章材料厂.深圳(518029))//应用激光.—1994,14(4).—181—183阐述了原子印章YAG脉冲激光雕刻机的工作原理,详细介绍了整机结构特点,以及激光器参数、工艺参数和计算机排版软件功能,并简述了激光进行原子印章雕刻时的作用机理和激光特性参数。