非晶态Se薄膜晶化过程中微裂纹产生的研究

薄膜在热处理过程中存在微观结构的变化。利用光学显微镜对非晶态Ｓｅ薄膜在晶化过程中微裂纹的产生做了详细的分析和研究；利用位形坐标解释了非晶薄膜室温下转变的原因。并对三层结构的ＳｉＯ／Ｓｅ／ＳｉＯ的晶化做了进一步研究。结果表明微裂纹的产生与晶化过程中原子重新排序、原子迁移导致晶界的产生和体积收缩产生的应力有关，裂纹的产生还同薄膜与衬底间的热失配有关。