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一种降低高性能SRAM过大位线漏电流的方法
1
作者
刘其龙
丁夏夏
+2 位作者
李瑞兴
吴秀龙
谭守标
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第4期494-498,共5页
随着半导体工艺的进步,器件特征尺寸不断缩小,晶体管漏电流呈现出增长趋势。高速SRAM位线上,过大的漏电流会引起SRAM的性能出现严重下降,甚至导致SRAM读失效的发生。特别是当位线上积累的漏电流已经超过SRAM的工作电流时,传统方法将趋...
随着半导体工艺的进步,器件特征尺寸不断缩小,晶体管漏电流呈现出增长趋势。高速SRAM位线上,过大的漏电流会引起SRAM的性能出现严重下降,甚至导致SRAM读失效的发生。特别是当位线上积累的漏电流已经超过SRAM的工作电流时,传统方法将趋于失效。提出位线自截断技术来消除过大漏电流对SRAM的不利影响。采用SMIC 65nm CMOS工艺,设计了一款SRAM,通过仿真测试,验证了该方法的正确性。
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关键词
SRAM
位线漏电流
漏电
流
降低
位线
自截断
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职称材料
题名
一种降低高性能SRAM过大位线漏电流的方法
1
作者
刘其龙
丁夏夏
李瑞兴
吴秀龙
谭守标
机构
安徽大学电子信息工程学院
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第4期494-498,共5页
基金
国家核高基资助项目(2011ZX01034-001-002-003)
文摘
随着半导体工艺的进步,器件特征尺寸不断缩小,晶体管漏电流呈现出增长趋势。高速SRAM位线上,过大的漏电流会引起SRAM的性能出现严重下降,甚至导致SRAM读失效的发生。特别是当位线上积累的漏电流已经超过SRAM的工作电流时,传统方法将趋于失效。提出位线自截断技术来消除过大漏电流对SRAM的不利影响。采用SMIC 65nm CMOS工艺,设计了一款SRAM,通过仿真测试,验证了该方法的正确性。
关键词
SRAM
位线漏电流
漏电
流
降低
位线
自截断
Keywords
SRAM
Bitline leakage current
Leakage current reduction
Bitline self cut-off
分类号
TN492 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种降低高性能SRAM过大位线漏电流的方法
刘其龙
丁夏夏
李瑞兴
吴秀龙
谭守标
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2013
0
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