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[013]取向Cu单晶体在NaCl水溶液中腐蚀疲劳位错结构的观察
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作者 杨继红 贾维平 +1 位作者 李守新 柯伟 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期99-102,共4页
利用扫描电镜电子通道衬度技术(SEM-ECC)和透射电子显微镜(TEM)对[013]取向Cu单晶体在空气中和NaCl水溶液中疲劳到饱和的位错结构进行观察。结果表明:在0.5mol/L Nacl水溶液中,腐蚀疲劳饱和位错结构主要是迷宫和脉络位错结构,这与空气... 利用扫描电镜电子通道衬度技术(SEM-ECC)和透射电子显微镜(TEM)对[013]取向Cu单晶体在空气中和NaCl水溶液中疲劳到饱和的位错结构进行观察。结果表明:在0.5mol/L Nacl水溶液中,腐蚀疲劳饱和位错结构主要是迷宫和脉络位错结构,这与空气中的驻留滑移带(PSBs)和脉络位错结构不同,腐蚀疲劳饱和位错结构的观察表明,介质对疲劳位错结构的影响相当于在其它条件都不变的情况下,增大了疲劳的塑性切应变幅。 展开更多
关键词 Cu单晶体 腐蚀疲劳 位错微结构
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