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0.18μm完全隔离型低导通态电阻(Low Ron)NLDMOS研究
被引量:
1
1
作者
冯喆韻
马千成
汪铭
《电子与封装》
2016年第7期39-43,共5页
介绍一组基于0.18μm逻辑平台构建的低导通态电阻(Low Ron)NLDMOS。该组LDMOS涵盖10~30 V应用电压。该NLDMOS为完全隔离型,因而其源端和漏端均可以独立于衬底加偏压。针对Drift区域和Body区域分别进行结构优化,最终得到性能良好的低...
介绍一组基于0.18μm逻辑平台构建的低导通态电阻(Low Ron)NLDMOS。该组LDMOS涵盖10~30 V应用电压。该NLDMOS为完全隔离型,因而其源端和漏端均可以独立于衬底加偏压。针对Drift区域和Body区域分别进行结构优化,最终得到性能良好的低导通态电阻(Low Ron)NLDMOS。其导通态电阻(Ron)为4.4 mΩ·mm-2对应击穿电压(BV)~20 V,21 mΩ·mm-2对应击穿电压(BV)~41 V。
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关键词
LDMOS
低导通态电阻
完全隔离型
下载PDF
职称材料
题名
0.18μm完全隔离型低导通态电阻(Low Ron)NLDMOS研究
被引量:
1
1
作者
冯喆韻
马千成
汪铭
机构
中芯国际集成电路制造有限公司
出处
《电子与封装》
2016年第7期39-43,共5页
文摘
介绍一组基于0.18μm逻辑平台构建的低导通态电阻(Low Ron)NLDMOS。该组LDMOS涵盖10~30 V应用电压。该NLDMOS为完全隔离型,因而其源端和漏端均可以独立于衬底加偏压。针对Drift区域和Body区域分别进行结构优化,最终得到性能良好的低导通态电阻(Low Ron)NLDMOS。其导通态电阻(Ron)为4.4 mΩ·mm-2对应击穿电压(BV)~20 V,21 mΩ·mm-2对应击穿电压(BV)~41 V。
关键词
LDMOS
低导通态电阻
完全隔离型
Keywords
LDMOS
low Ron
fully isolated
分类号
TN432 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
0.18μm完全隔离型低导通态电阻(Low Ron)NLDMOS研究
冯喆韻
马千成
汪铭
《电子与封装》
2016
1
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