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氮化硅陶瓷的低温常压烧结及其力学性能 被引量:5
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作者 李家亮 陈斐 牛金叶 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期1309-1313,共5页
本文采用氧化镁(MgO)和磷酸铝(AlPO4)为烧结助剂,利用常压烧结工艺于1600℃制备了以α相为主相的氮化硅(Si3N4)陶瓷材料。利用XRD和SEM等对其物相组成和显微结构进行了表征,并分析烧结助剂含量对材料致密度的影响,研究氮化硅陶瓷的致密... 本文采用氧化镁(MgO)和磷酸铝(AlPO4)为烧结助剂,利用常压烧结工艺于1600℃制备了以α相为主相的氮化硅(Si3N4)陶瓷材料。利用XRD和SEM等对其物相组成和显微结构进行了表征,并分析烧结助剂含量对材料致密度的影响,研究氮化硅陶瓷的致密度与其力学性能之间的关系。结果表明:当AlPO4含量为20wt%~30wt%时,氮化硅陶瓷的致密度可达90%以上,抗弯强度为250~320 MPa。AlPO4在Si3N4陶瓷烧结中对提高其致密度与力学性能起到了重要的作用。 展开更多
关键词 氮化硅陶瓷 低温常压烧结 AlPO4
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