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光化学气相沉积薄膜的生长机理及其研究进展
被引量:
1
1
作者
彭英才
《真空科学与技术》
CSCD
1994年第4期294-298,共5页
近年,作为固体表面一项新的低温成膜工艺,光化学气相沉积已经取得了显著进展。本文从光化学原理角度出发,介绍了光化学气相沉积反应的能量过程及生长机理,并展望了它的今后发展前景。
关键词
光化学气相沉积
薄膜
生长机理
低温成膜工艺
下载PDF
职称材料
题名
光化学气相沉积薄膜的生长机理及其研究进展
被引量:
1
1
作者
彭英才
机构
河北大学电子与信息工程系
出处
《真空科学与技术》
CSCD
1994年第4期294-298,共5页
基金
河北省教委科学基金
文摘
近年,作为固体表面一项新的低温成膜工艺,光化学气相沉积已经取得了显著进展。本文从光化学原理角度出发,介绍了光化学气相沉积反应的能量过程及生长机理,并展望了它的今后发展前景。
关键词
光化学气相沉积
薄膜
生长机理
低温成膜工艺
Keywords
Photo-CVD, Thin film,Growth mechanism
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
O644.13 [理学—物理化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
光化学气相沉积薄膜的生长机理及其研究进展
彭英才
《真空科学与技术》
CSCD
1994
1
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