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光化学气相沉积薄膜的生长机理及其研究进展 被引量:1
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作者 彭英才 《真空科学与技术》 CSCD 1994年第4期294-298,共5页
近年,作为固体表面一项新的低温成膜工艺,光化学气相沉积已经取得了显著进展。本文从光化学原理角度出发,介绍了光化学气相沉积反应的能量过程及生长机理,并展望了它的今后发展前景。
关键词 光化学气相沉积 薄膜 生长机理 低温成膜工艺
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