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X射线低温衍射装置液氮输入器 被引量:1
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作者 朱江 李耀会 李小定 《分析仪器》 CAS 1992年第1期62-63,共2页
本文报导了X射线低温衍射装置中一个液氮输入器的设计原理及应用结果.该输入器设计简单,操作方便,稳定性好.
关键词 X射线 低温衍射 液氮输入器
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LiCl、CaCl2和NaCl-CaCl2水溶液体系低温相变过程的X射线衍射法研究 被引量:1
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作者 李青海 何荔 +3 位作者 姚燕 朱东海 李冰 李武 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2010年第10期1804-1809,共6页
本文使用低温X射线衍射法对不同浓度的LiCl、CaCl2和NaCl-CaCl2水溶液在降温过程中的相变情况进行了实时监测,获得了降温过程中的衍射图。结果显示,在快速降温的实验条件下,随温度降低,CaCl2溶液在-10~-60℃范围内析出冰或CaCl2·6... 本文使用低温X射线衍射法对不同浓度的LiCl、CaCl2和NaCl-CaCl2水溶液在降温过程中的相变情况进行了实时监测,获得了降温过程中的衍射图。结果显示,在快速降温的实验条件下,随温度降低,CaCl2溶液在-10~-60℃范围内析出冰或CaCl2·6H2O;LiCl溶液在5~-80℃范围内析出冰或LiCl·H2O;CaCl2-NaCl溶液在5~-40℃范围内析出CaCl2·6H2O或NaCl、冰。实验结果与相图的对比验证了这一实验方法的可行性。根据实验结果推断,本实验条件下固相可能先以无水盐的形式析出,而水合盐的形成则需要更长的平衡时间。本文的实验方法可为其他油田卤水子体系低温相平衡的研究提供有用信息,进而为油田水低温下结晶析盐规律的研究奠定基础。 展开更多
关键词 低温X射线衍射 实时监测 油田卤水体系 低温相变过程
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低温X射线晶体衍射法在生物大分子结构分析中的应用 被引量:2
3
作者 董襄朝 《Chinese Journal of Structural Chemistry》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2001年第4期245-248,共4页
综述了低温X射线晶体衍射法在生物大分子结构测定中的发展与应用,介绍了在数据收集中的急速降温,冷冻防护剂的使用和载晶技术, 以及低温X射线晶体衍射法应用于测定生物反应中间体的最新进展。
关键词 结构分析 应用 低温X射线晶体衍射 生物大分子 急速降温 冷冻防护剂 纤维环载晶技术
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YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导体的低温X射线衍射研究 被引量:1
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作者 陶前 Ejaz Ahmed +4 位作者 李林军 何咪 许祝安 薛芸 铃木治彦 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第A04期31-33,共3页
测量了氧含量最佳掺杂的YBa2Cu3O7-δ(YBCO)超导体的低温X射线衍射。对于最佳掺杂样品,高精度的X衍射可以发现其(013),(103),(113)和(020)等衍射峰的d值的温度关系在Tc=91K附近有细微的异常,同时(103)、(013)和(113)等衍射峰积分强度均... 测量了氧含量最佳掺杂的YBa2Cu3O7-δ(YBCO)超导体的低温X射线衍射。对于最佳掺杂样品,高精度的X衍射可以发现其(013),(103),(113)和(020)等衍射峰的d值的温度关系在Tc=91K附近有细微的异常,同时(103)、(013)和(113)等衍射峰积分强度均在Tc附近出现明显的反常变化。例如,(103)和(013)的峰强度先有所下降,然后又增加,而在Tc处形成一个极小值。衍射峰强度的变化通过Debye-Waller因子反映出晶格振动频率等变化,在此基础上探讨了与CuO2平面有关的声子频率的可能变化。结果说明,即使在非传统的d-波超导体中,晶格振动在Tc附近也可能存在可观测的变化,声子在高温超导机制中究竟起了什么作用值得深究。 展开更多
关键词 123相高温超导体 低温X射线衍射 Debye-Waller因子
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南翼山油田卤水低温结晶过程研究 被引量:10
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作者 李青海 顾同欣 +3 位作者 于升松 姚燕 李冰 李武 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1803-1808,共6页
自行设计搭建了一套油田水低温冷冻实验设备,使用该设备研究了南翼山油田原始卤水在-18.90°C到-30.90°C范围内的结冰析盐过程,精确测量了油田水随温度降低第一种和第二种固相的析出温度.化学分析得到了该温度范围内Ca2+、Mg2+... 自行设计搭建了一套油田水低温冷冻实验设备,使用该设备研究了南翼山油田原始卤水在-18.90°C到-30.90°C范围内的结冰析盐过程,精确测量了油田水随温度降低第一种和第二种固相的析出温度.化学分析得到了该温度范围内Ca2+、Mg2+、K+、Cl-、B2O3、Na+六种常量组分在液相中的含量变化趋势.使用低温X射线衍射法对原始卤水在低温下得到的固相进行了初步的鉴定,并对南翼山油田水的低温相变过程进行了实时监测.实验结果表明:南翼山油田水降温至-19.10°C析出第一种盐NaC.l2H2O,降至-23.55°C同时析出冰和NaC.l2H2O. 展开更多
关键词 油田卤水 冷冻 NaCl·2H2O 低温X射线衍射
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Low-temperature sintering and microwave dielectric properties of Li_2MgTi_3O_8 ceramics doped with BaCu(B_2O_5) 被引量:3
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作者 包燕 陈国华 +6 位作者 侯美珍 韩作鹏 邓开能 杨云 袁昌来 周昌荣 刘心宇 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2012年第5期1202-1205,共4页
The influences of BaCu(B2O5) (BCB) addition on sintering, microstructure and microwave dielectric properties of Li2MgTi308 ceramics were investigated using X-ray diffractometry, scanning electron microscopy and mi... The influences of BaCu(B2O5) (BCB) addition on sintering, microstructure and microwave dielectric properties of Li2MgTi308 ceramics were investigated using X-ray diffractometry, scanning electron microscopy and microwave dielectric measurements. The experimental results show that a small amount of BaCu(B2O5) addition can effectively reduce the sintering temperature to 900℃, and induce only a limited degradation of the microwave dielectric properties. Typically, the best microwave dielectric properties of er24.5, Q×f =24 622 GHz, rf=4.2×10-6℃ -1 are obtained for 1.0% BCB-doped Li2MgTi3O8 ceramics sintered at 900℃ for 3 h. The BCB-doped Li2MgTi3O8 ceramics can be compatible with Ag electrode, which may be a strong candidate for low temperature co-fired ceramics applications. 展开更多
关键词 CERAMICS dielectrics low-temperature co-fired ceramics microwave dielectric properties
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Growth of SiGe by D-UHV/CVD at Low Temperature
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作者 曾玉刚 韩根全 余金中 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1889-1892,共4页
The temperature is a key factor for the quality of the SiGe alloy grown by D-UHV/CVD. In conventional conditions,the lowest temperature for SiGe growth is about 550℃. Generally, the pressure of the growth chamber is ... The temperature is a key factor for the quality of the SiGe alloy grown by D-UHV/CVD. In conventional conditions,the lowest temperature for SiGe growth is about 550℃. Generally, the pressure of the growth chamber is about 10 ^-5 Pa when liquid nitrogen is introduced into the wall of the growth chamber with the flux of 6sccm of the disilane gas. We have succeeded in depositing SiGe films at much lower temperature using a novel method. It is about 10.2 Pa without liquid nitrogen, about 3 magnitudes higher than the traditional method,leading to much faster deposition rate. Without liquid nitrogen,the SiGe film and SiGe/Si superlattice are grown at 485℃. The DCXRD curves and TEM image show that the quality of the film is good. The experiments show that this method is efficient to deposit SiGe at low temperature. 展开更多
关键词 SIGE D-UHV/CVD low-temperature deposition DCXRD
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