低温PVD法制备多组分超硬薄膜研究

对薄膜淀积的各种PVD技术和新型薄膜研究进展进行了综述 ,讨论了多组分硬质薄膜低温制备存在的问题 ,指出了解决的办法 ;归纳了影响多组分硬质薄膜在三维基体上均匀、均质淀积的因素 ,重点讨论了基体旋转与靶源配置问题 ;指出了用低温PVD法淀积多组分超硬薄膜研究方向。

低温PVD法制备多组分超硬薄膜相组成研究

回顾了多组分硬质薄膜的发展 ,指出了多组分薄膜低温淀积时相组成研究与预测存在的问题。对多组分硬质薄膜 ,包括类质同晶体系与多组分共熔体 ,低共熔体系、转熔体系、亚稳定固熔体与非晶固熔体 ,化合物 ,梯度薄膜 ,多相薄膜材料 ,多层薄膜和超晶格薄膜等可能的相组成与相关性质进行了讨论。对淀积速率与薄膜厚度 ,相组成与薄膜均质性 。