用RF/DC Move Mag法淀积的彩色滤光用低电阻率ITO薄膜

对ＭｏｖｅＭａｇ阴极（旨在提高靶利用率）叠加ＲＦ的ＤＣ磁控溅射方法所淀积的低电阻率ＩＴＯ膜的结果进行了讨论。实验是在一个串级溅射系统ＡＲＩＳＴＯ５００Ｓ上进行的，可用基片面积高达５７０×１３５０ｍｍ２，在基片温度２００℃及靶利用率高于４０％的条件下，在玻璃（浮法玻璃）上得到电阻率小于１５０μΩｃｍ的ＩＴＯ薄膜。