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用低能离子溅射剥层和高能离子背散射组合方法进行薄膜原位分析 被引量:2
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作者 刘波 姜蕾 +3 位作者 周筑颖 贺勉鸿 赵国庆 宗祥福 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期164-169,共6页
介绍了将离子枪组合于卢瑟福背散射分析靶室中构成Sputtering/RBS原位分析实验装置,用低能离子溅射剥层与高能离子背散射组合对薄膜样品进行成分和深埋层分析方法.给出了对样品分析的三个例子.对Au/Si 样品的分... 介绍了将离子枪组合于卢瑟福背散射分析靶室中构成Sputtering/RBS原位分析实验装置,用低能离子溅射剥层与高能离子背散射组合对薄膜样品进行成分和深埋层分析方法.给出了对样品分析的三个例子.对Au/Si 样品的分析着重讨论了Au 在Ar+ 溅射剥层时的溅射速率;对Si/GeSi/Si 和WSix/SiO2/Si 样品的深埋层分析,提高了样品分析的深度分辨率. 展开更多
关键词 薄膜原位分析 低能离子溅射剥层 高能离子背散射
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