磁性多层膜中保护层Ru对磁性层NiFe的影响

主要研究了不同保护层Ta和Ru对磁性薄膜NiFe的厚度及磁性的影响。通过观察可以看出,NiFe/Ta,NiFe/Ru界面间产生了磁矩为零的部分层即所谓的"死层",其厚度分别为(1.5±0.2)nm,(1.2±0.2)nm(厚度误差在0.2nm范围内)。利用两种保护层时虽然避免不了"死层"现象的出现,但是发现,Ru作为保护层时产生的"死层"厚度比Ta作为保护层时的小。为了进一步证实这一点,我们采用X射线衍射仪及X射线光电子能谱仪对该两种薄膜进行了结构测试和深度剖析,并且运用XPSPeak 4.1拟合软件对获得的Ta4f和Ru3d的高分辨XPS谱进行了计算机拟合分析;结果表明,Ru较Ta更加适合于做保护层,渴望在自旋电子器件上得到应用。