《专利法》第33条的立法本意与法律适用探析——以先申请原则和禁止反悔原则为支点

理解《专利法》第33条的立法本意,分析其法律适用标准,需要以先申请原则和禁止反悔原则为逻辑基础。讨论美国、日本、欧洲相关规定的立法本意和逻辑基础。进一步分析禁止反悔原则理应包括授权程序中的禁止反悔、确权程序中的禁止反悔和授权与确权程序之间的禁止反悔。从先申请原则和禁止反悔原则分析《专利法》第33条的立法本意。就《专利法》第33条的法律适用给出具体规则建议:以修正的新颖性判定方法为判断基准,对于修改的内容区分澄清性修改与调整性修改,并结合修改时机等因素对调整性修改内容进行禁止反悔判断。