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倾斜溅射制备TbFe薄膜的磁力显微镜研究
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作者 陈琨 王志红 +1 位作者 张金平 周宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期3349-3351,3555,共4页
磁力显微镜(MFM)作为研究表面磁结构的有力工具广泛地应用于磁性薄膜的研究中.TbFe磁致伸缩薄膜在实际应用中要求易磁化轴平行于膜面,以具有较低的面内饱和场Hs,传统的成膜技术难以实现这一目标,采用倾斜溅射方法制备TbFe薄膜可有效降... 磁力显微镜(MFM)作为研究表面磁结构的有力工具广泛地应用于磁性薄膜的研究中.TbFe磁致伸缩薄膜在实际应用中要求易磁化轴平行于膜面,以具有较低的面内饱和场Hs,传统的成膜技术难以实现这一目标,采用倾斜溅射方法制备TbFe薄膜可有效降低面内饱和场Hs.通过测量样品的磁滞回线可以发现,易磁化轴随着溅射角度的增加逐渐偏离样品的法线方向,而取向于平行膜面.本研究工作利用MFM研究了不同溅射角度得到的TbFe薄膜的磁畴结构.发现薄膜的磁畴结构随着溅射角度的增加逐渐由垂直畴转化为水平畴,与磁滞回线测量得到的易轴方向发生偏转的结果相吻合. 展开更多
关键词 磁力显微镜 TbFe薄膜 倾斜溅射
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倾斜溅射FeCoDy薄膜静磁性能与磁化反转机制
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作者 李霞 徐展 +3 位作者 张志 胡芳 刘二 徐锋 《常熟理工学院学报》 2018年第2期20-23,34,共5页
研究了倾斜溅射制备的(Fe_(65)Co_(35))_(92.2)Dy_(7.8)薄膜的静磁性能与磁化反转机制.制备得到的薄膜为非晶薄膜,表现出良好软磁性能与单轴各向异性.其易轴方向矫顽力随溅射角度增加而增加.在39°溅射的薄膜中获得最大的单轴各向... 研究了倾斜溅射制备的(Fe_(65)Co_(35))_(92.2)Dy_(7.8)薄膜的静磁性能与磁化反转机制.制备得到的薄膜为非晶薄膜,表现出良好软磁性能与单轴各向异性.其易轴方向矫顽力随溅射角度增加而增加.在39°溅射的薄膜中获得最大的单轴各向异性场为898.1 Oe.接近难轴方向的磁化反转由一致旋转占主导,而接近易轴方向时由畴壁反钉扎机制占主导.基于LLG方程的计算表明,通过调控倾斜溅射角度,薄膜的铁磁共振频率可由5.3 GHz调制到10.9 GHz,展示了在微波器件中的应用前景. 展开更多
关键词 倾斜溅射 软磁 磁化反转
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倾斜溅射对Fe/IrMn外延交换偏置异质结磁性的影响
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作者 王逸凡 詹清峰 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2021年第3期1-7,共7页
在MgO(001)单晶衬底上以0~50°的倾斜溅射角外延生长Fe(5nm)/IrMn(10nm)交换偏置异质结以及固定倾斜溅射角50°生长不同铁磁层厚度(5,10,20nm)的Fe/IrMn(10nm)交换偏置异质结,系统地研究了倾斜溅射和铁磁层厚度对磁翻转过程的... 在MgO(001)单晶衬底上以0~50°的倾斜溅射角外延生长Fe(5nm)/IrMn(10nm)交换偏置异质结以及固定倾斜溅射角50°生长不同铁磁层厚度(5,10,20nm)的Fe/IrMn(10nm)交换偏置异质结,系统地研究了倾斜溅射和铁磁层厚度对磁翻转过程的影响。基于矢量网络分析仪铁磁共振测试,样品的铁磁共振场随外磁场方向呈现出四重对称的变化规律,证实了铁磁层的外延生长。基于磁光克尔效应测试,通过改变测试过程中外磁场方向,观察到矩形、非对称、一边两步磁滞回线,并利用90°畴壁成核和位移机制对磁翻转场的角度依赖关系以及不同磁翻转方式的临界磁场角度进行合理解释。 展开更多
关键词 Fe/IrMn交换偏置异质结 磁各向异性 倾斜溅射 磁滞回线 磁翻(反)转
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小圆形平面靶倾斜磁控溅射镀膜均匀性研究 被引量:3
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作者 付学成 徐锦滨 +2 位作者 乌李瑛 黄胜利 王英 《真空》 CAS 2021年第4期1-5,共5页
基于小圆形平面靶倾斜磁控溅射的实际情况,针对靶材环形刻蚀槽与水平工件台存在夹角的特点,建立数学模型。利用MATLAB软件进行模拟仿真,研究靶材与工件台正对且高度固定时,不同夹角对膜厚分布的影响。我们发现在工件台相对靶材的水平距... 基于小圆形平面靶倾斜磁控溅射的实际情况,针对靶材环形刻蚀槽与水平工件台存在夹角的特点,建立数学模型。利用MATLAB软件进行模拟仿真,研究靶材与工件台正对且高度固定时,不同夹角对膜厚分布的影响。我们发现在工件台相对靶材的水平距离上,膜厚先增加后降低。当靶材夹角适当时,在工件台固定的区域范围内,薄膜沉积速率的变化近似直线。根据薄膜厚度在工件台水平面呈圆弧状递减分布实际特点,模拟出在4英寸的衬底上片内均匀性。根据模拟结果,我们在4英寸的衬底上制备出片内非均匀性小于0.6%的氮化钽薄膜,验证了数学模型的合理性,并解释了非均匀性的实验结果优于模拟计算结果的原因。这为设计制造磁控溅射镀膜设备提供了参考。 展开更多
关键词 圆形平面靶 磁控溅射 倾斜溅射 数学模型 高均匀性
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倾斜溅射对CoFeB薄膜条纹磁畴结构与磁各向异性的影响 被引量:1
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作者 马晓琴 詹清峰 +3 位作者 李金财 刘青芳 王保敏 李润伟 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期1281-1288,共8页
利用倾斜溅射的方法制备了非晶Co Fe B磁性薄膜,研究了倾斜溅射对非晶Co Fe B磁性薄膜条纹磁畴结构、面内静态磁各向异性、面内转动磁各向异性、垂直磁各向异性的影响规律。结果表明,倾斜溅射可以有效地降低Co Fe B非晶薄膜条纹磁畴结... 利用倾斜溅射的方法制备了非晶Co Fe B磁性薄膜,研究了倾斜溅射对非晶Co Fe B磁性薄膜条纹磁畴结构、面内静态磁各向异性、面内转动磁各向异性、垂直磁各向异性的影响规律。结果表明,倾斜溅射可以有效地降低Co Fe B非晶薄膜条纹磁畴结构出现的临界厚度,无倾斜溅射时,Co Fe B薄膜出现条纹磁畴结构的临界厚度大于240 nm,倾斜溅射时,出现条纹磁畴结构的临界厚度小于240 nm。磁性测试结果表明,对于具有条纹磁畴结构的Co Fe B薄膜,倾斜溅射不仅可以提高磁性薄膜的面内静态磁各向异性的强度,同时还可以增强面内转动磁各向异性与垂直磁各向异性的强度。随着倾斜溅射角度的逐渐增大,磁各向异性的强度均呈现增大的趋势。XRD和TEM观测结果证明,Co Fe B薄膜趋于非晶结构,同时,SEM观察结果表明,Co Fe B薄膜虽然不存在长程有序的晶体结构,但依然可以形成柱状结构,由于倾斜溅射技术,形成的柱状结构呈倾斜状态,从而增强了薄膜的垂直磁各向异性,导致条纹磁畴结构的出现。 展开更多
关键词 CoFeB薄膜 条纹磁畴 铁磁共振 倾斜溅射 转动磁各向异性
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倾斜磁控溅射低温沉积ZnO∶Al薄膜及其光电性能的研究
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作者 冯兰 刁训刚 +2 位作者 王涛 刘海鹰 康明生 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第A02期304-307,共4页
利用直流-射频共溅射法在玻璃基底上低温制备了系列掺铝氧化锌(ZAO)透明导电薄膜。研究了低温溅射过程中倾斜溅射靶偏角对样品电学性能、紫外-可见-近红外光区透过率、X射线衍射谱及薄膜表面形貌的影响。结果表明,室温条件下制备的ZAO... 利用直流-射频共溅射法在玻璃基底上低温制备了系列掺铝氧化锌(ZAO)透明导电薄膜。研究了低温溅射过程中倾斜溅射靶偏角对样品电学性能、紫外-可见-近红外光区透过率、X射线衍射谱及薄膜表面形貌的影响。结果表明,室温条件下制备的ZAO薄膜具有(002)择优取向,当靶偏角为23°时,薄膜方块电阻最低,可达17Ω/□,电阻率为2.2×10-3Ω·cm,可见光平均透过率在85%以上,最高可在95%以上。紫外截止和近红外反射效果明显。 展开更多
关键词 ZnO∶Al薄膜 透明导电薄膜 溅射 倾斜溅射
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