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活性屏离子渗氮技术中偏压电源伏安特性
被引量:
1
1
作者
蓝跃龙
王宇
+1 位作者
郑少梅
赵程
《材料热处理学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期154-157,共4页
研究了活性屏离子渗氮技术中,气体成分、主电压、温度、压强以及笼子尺寸对偏压伏安特性曲线的影响,并用气体放电理论对曲线做出了解释。实验结果表明,在H2或N2/H2气氛中,偏压的伏安特性曲线呈线性增长;而在纯N2气氛中,偏压的伏安特性...
研究了活性屏离子渗氮技术中,气体成分、主电压、温度、压强以及笼子尺寸对偏压伏安特性曲线的影响,并用气体放电理论对曲线做出了解释。实验结果表明,在H2或N2/H2气氛中,偏压的伏安特性曲线呈线性增长;而在纯N2气氛中,偏压的伏安特性曲线则呈非线性,并在250 V时出现拐点。研究还发现,在偏压一定的情况下,偏流会随着主电压和气压的升高而增大,随着温度的升高而减小,而笼子尺寸对偏压的伏安特性曲线的影响比较小。
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关键词
活性屏离子渗氮
主电压
偏压伏安特性
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职称材料
题名
活性屏离子渗氮技术中偏压电源伏安特性
被引量:
1
1
作者
蓝跃龙
王宇
郑少梅
赵程
机构
青岛科技大学机电工程学院表面技术研究所
出处
《材料热处理学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期154-157,共4页
基金
山东省自然科学基金项目(ZR2010EM018)
文摘
研究了活性屏离子渗氮技术中,气体成分、主电压、温度、压强以及笼子尺寸对偏压伏安特性曲线的影响,并用气体放电理论对曲线做出了解释。实验结果表明,在H2或N2/H2气氛中,偏压的伏安特性曲线呈线性增长;而在纯N2气氛中,偏压的伏安特性曲线则呈非线性,并在250 V时出现拐点。研究还发现,在偏压一定的情况下,偏流会随着主电压和气压的升高而增大,随着温度的升高而减小,而笼子尺寸对偏压的伏安特性曲线的影响比较小。
关键词
活性屏离子渗氮
主电压
偏压伏安特性
Keywords
active screen plasma nitriding
main voltage
voltage-current characteristic of bias
分类号
TG156.82 [金属学及工艺—热处理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
活性屏离子渗氮技术中偏压电源伏安特性
蓝跃龙
王宇
郑少梅
赵程
《材料热处理学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
1
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职称材料
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