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双偏置式万向节钢球径向位移的解析及保持架窗孔的设计
1
作者
石宝枢
《机械工程师》
2015年第2期238-241,共4页
根据双偏置式万向节的结构特征,通过两轴转角时运动机理的分析,推导并计算出沿圆周均布的每一钢球在其相应的星形套和筒形壳沟道内,沿径向(偏心保持架圆形窗孔的直径方向)的位移量,进而系统、准确地探寻出该万向节偏心保持架圆形窗孔的...
根据双偏置式万向节的结构特征,通过两轴转角时运动机理的分析,推导并计算出沿圆周均布的每一钢球在其相应的星形套和筒形壳沟道内,沿径向(偏心保持架圆形窗孔的直径方向)的位移量,进而系统、准确地探寻出该万向节偏心保持架圆形窗孔的设计与计算方法,并举例说明。
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关键词
双偏置式万向节
钢球
径向位移
偏心保持架
圆形窗孔
设计
计算
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职称材料
定偏心平面研磨均匀性研究
被引量:
1
2
作者
周兆忠
郑家锦
袁巨龙
《现代制造工程》
CSCD
2005年第5期14-16,共3页
对修正环形抛光机CMP过程进行运动分析,给出研磨盘上一点相对于工件的速度矢量与轨迹方程。详细讨论研磨盘上不同位置的点的相对轨迹,通过对相对速度的讨论发现,当研磨盘与工件具有相同的角速度时,有利于工件平面度的提高。重点分析开...
对修正环形抛光机CMP过程进行运动分析,给出研磨盘上一点相对于工件的速度矢量与轨迹方程。详细讨论研磨盘上不同位置的点的相对轨迹,通过对相对速度的讨论发现,当研磨盘与工件具有相同的角速度时,有利于工件平面度的提高。重点分析开螺旋槽的研磨盘对工件平面度的影响,提出用偏心保持架装置替代同心保持架装置,有利于工件平面度提高。实验结果与理论分析相符。
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关键词
CMP
轨迹方程
偏心保持架
平面度
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职称材料
平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究
被引量:
1
3
作者
沈晓安
《机械制造》
2009年第5期16-18,共3页
对修整环形抛光机平面抛光过程进行了运动分析,给出了抛光垫上某一点相对于试件的速度矢量与轨迹方程。通过对相对速度的讨论发现,当抛光垫与试件具有相同的角速度时,有利于试件平面度的提高。详细讨论了抛光垫上不同位置点的相对轨迹,...
对修整环形抛光机平面抛光过程进行了运动分析,给出了抛光垫上某一点相对于试件的速度矢量与轨迹方程。通过对相对速度的讨论发现,当抛光垫与试件具有相同的角速度时,有利于试件平面度的提高。详细讨论了抛光垫上不同位置点的相对轨迹,这些轨迹可以视为试件表面形成的划痕。重点描述了开螺旋槽的抛光垫对试件平面度的影响,提出用偏心保持架装置替代目前的同心保持架装置,有利于试件平面度提高。实验结果与理论分析相符。
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关键词
磨粒
轨迹方程
偏心保持架
平面度
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职称材料
题名
双偏置式万向节钢球径向位移的解析及保持架窗孔的设计
1
作者
石宝枢
机构
浙江众达传动股份有限公司
出处
《机械工程师》
2015年第2期238-241,共4页
文摘
根据双偏置式万向节的结构特征,通过两轴转角时运动机理的分析,推导并计算出沿圆周均布的每一钢球在其相应的星形套和筒形壳沟道内,沿径向(偏心保持架圆形窗孔的直径方向)的位移量,进而系统、准确地探寻出该万向节偏心保持架圆形窗孔的设计与计算方法,并举例说明。
关键词
双偏置式万向节
钢球
径向位移
偏心保持架
圆形窗孔
设计
计算
分类号
U463.216 [机械工程—车辆工程]
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职称材料
题名
定偏心平面研磨均匀性研究
被引量:
1
2
作者
周兆忠
郑家锦
袁巨龙
机构
浙江工业大学浙西分校
浙江工业大学
出处
《现代制造工程》
CSCD
2005年第5期14-16,共3页
基金
国家自然科学基金资助(50475119)
浙江省自然科学基金资助(M503062)
+1 种基金
浙江省教育厅资助(20041320)
衢州市科技局资助(20041015)
文摘
对修正环形抛光机CMP过程进行运动分析,给出研磨盘上一点相对于工件的速度矢量与轨迹方程。详细讨论研磨盘上不同位置的点的相对轨迹,通过对相对速度的讨论发现,当研磨盘与工件具有相同的角速度时,有利于工件平面度的提高。重点分析开螺旋槽的研磨盘对工件平面度的影响,提出用偏心保持架装置替代同心保持架装置,有利于工件平面度提高。实验结果与理论分析相符。
关键词
CMP
轨迹方程
偏心保持架
平面度
Keywords
CMP(Chemical mechanical polishing) Track equation Ecconcentric holder Flatness
分类号
TH16 [机械工程—机械制造及自动化]
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职称材料
题名
平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究
被引量:
1
3
作者
沈晓安
机构
浙江工业大学浙西分校
出处
《机械制造》
2009年第5期16-18,共3页
文摘
对修整环形抛光机平面抛光过程进行了运动分析,给出了抛光垫上某一点相对于试件的速度矢量与轨迹方程。通过对相对速度的讨论发现,当抛光垫与试件具有相同的角速度时,有利于试件平面度的提高。详细讨论了抛光垫上不同位置点的相对轨迹,这些轨迹可以视为试件表面形成的划痕。重点描述了开螺旋槽的抛光垫对试件平面度的影响,提出用偏心保持架装置替代目前的同心保持架装置,有利于试件平面度提高。实验结果与理论分析相符。
关键词
磨粒
轨迹方程
偏心保持架
平面度
分类号
TH113.2 [机械工程—机械设计及理论]
TG580.692 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
双偏置式万向节钢球径向位移的解析及保持架窗孔的设计
石宝枢
《机械工程师》
2015
0
下载PDF
职称材料
2
定偏心平面研磨均匀性研究
周兆忠
郑家锦
袁巨龙
《现代制造工程》
CSCD
2005
1
下载PDF
职称材料
3
平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究
沈晓安
《机械制造》
2009
1
下载PDF
职称材料
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