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分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn_(1-x)Mg_xO薄膜折射率及厚度的测试
被引量:
5
1
作者
延凤平
郑凯
+8 位作者
王琳
李一凡
龚桃荣
简水生
尾形健一
小池一步
佐佐诚彦
井上正崇
矢野满明
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第7期4127-4131,共5页
利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系...
利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线,为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据.
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关键词
ZNMGO薄膜
偏振光椭圆率测量仪
折射
率
分子束外延(MBE)
原文传递
题名
分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn_(1-x)Mg_xO薄膜折射率及厚度的测试
被引量:
5
1
作者
延凤平
郑凯
王琳
李一凡
龚桃荣
简水生
尾形健一
小池一步
佐佐诚彦
井上正崇
矢野满明
机构
北京交通大学光波技术研究所
Bio Venture Center
New Material Research Center
New Material Research Center
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第7期4127-4131,共5页
基金
国家自然科学基金重点项目(批准号:60337010)资助的课题.~~
文摘
利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线,为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据.
关键词
ZNMGO薄膜
偏振光椭圆率测量仪
折射
率
分子束外延(MBE)
Keywords
ZnMgO film, ellipsometry, refractive index, molecular beam epitaxy (MBE)
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn_(1-x)Mg_xO薄膜折射率及厚度的测试
延凤平
郑凯
王琳
李一凡
龚桃荣
简水生
尾形健一
小池一步
佐佐诚彦
井上正崇
矢野满明
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
5
原文传递
已选择
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条
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参考文献
引证文献
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