基于圆锥偏振装置的非相干柱对称偏振光束产生方法

偏振光束由于其应用广泛并且具有某些特殊的性质,被引起广泛的关注。因此,如何通过实验的方法产生偏振光束在实际应用中是非常必要的。现提出了一种产生非相干柱对称偏振光束的方法,用偏振膜做成的圆锥偏振装置是产生非相干柱对称偏振光束的关键部件,装置能够将入射的一束自然光经透射后直接转变为非相干柱对称偏振光束。实验结果表明,该方法简单有效,所产生的非相干柱对称偏振光束可靠性好、实用性强。

北京同步辐射软X射线偏振测量装置及其应用

在北京同步辐射装置(BSRF)设计建造了一套基于多层膜偏振元件的软X射线偏振测量分析装置,可工作在双反、双透、前反后透和前透后反四种工作模式,既可作为偏振测量装置,用于同步辐射光束线和多层膜偏振元件偏振特性测量,也可作为通用反射率计,用于多层膜和薄膜的反射或透射率测量,又可用于磁性材料的磁光效应研究等。利用自行研制的装置和光学元件对BSRF的3W1B光束线的偏振特性进行了系统的测量。测量结果指出,在206 eV时,输出光的线偏振度从起偏前的0.585上升到起偏后的0.995,同步光的线偏振度得到极大改善。利用非周期宽带Mo/Si多层膜开展了铁磁性材料的磁光法拉第效应测量,获得了Ni薄膜3p边附近(60–70 eV)的法拉第旋转角度,最大偏转角度在65.5 eV和68 eV分别为1.85±0.19°和–0.75±0.09?。

同步辐射软X射线综合偏振测量分析装置的控制与数据获取系统

基于LabVIEW编程方法实现了对同步辐射软X射线偏振测量分析装置的系统控制和数据获取,给出了装置介绍、运动控制的物理思想、软件编程思路以及最终具体的实现方法,并对今后相关类似的软件应用进行了讨论。

深紫外高透过石英晶体的生长和光学性能表征

照明系统是光刻机的重要组成部分,其主要功能是对激光光束进行扩束、整形和匀光。石英晶体x晶向具有本征双折射特点,以其原理制作的偏振装置可实现对光束偏振态的控制,配合离轴照明,能够进一步提高光刻机照明系统的分辨率和成像质量。受传统石英晶体生长工艺和晶体自范性限制,用于偏振装置的大口径石英波片(>ϕ50 mm)一直是石英晶体研究的难题。本文利用平行定向生长水热工艺,系统调整温度、压力、矿化剂种类和浓度、节流挡板开孔率等参数,成功合成了可用于193 nm波长的高透过率石英单晶,并加工出已知报道的最大尺寸ϕ160 mm石英波片坯料。实验过程中使用改进的框架籽晶法淘汰了可遗传腐蚀隧道缺陷,通过优化原料配比进一步降低Al^(3+)、Na^(+)等微量元素含量,控制升温曲线实现籽晶界面晶格匹配,从而淡化籽晶外延区域均匀性差异。对单晶样品进行微量元素含量、内透过率、双折射性能和光学均匀性表征,结果表明,石英晶体微量元素总含量控制在7×10^(-6)以内,内透过率达到99.80%/mm,双折射率差不均匀性低于0.0297%,ϕ140 mm有效通光口径内光学均匀性PV值达到3.9×10^(-6)。

基于多层膜偏振元件的同步辐射光束线偏振特性测量研究

利用自行研制的同步辐射软X射线多层膜综合偏振测量装置,对北京同步辐射装置(BSRF)的3W1B软X射线光束线的偏振特性进行了系统的研究．给出了多层膜偏振元件起偏前后的测量结果,测量能量为206cV时,经反射镜、光栅等光束线光学元件后输出的线偏振度(起偏前)为0．585,经多层膜偏振元件起偏后输出光的线偏振度达到0．995．

基于多层膜偏振元件的软X射线磁光Faraday偏转测量

在北京同步辐射装置(BSRF)的3W1B软X射线光束线上利用自行研制的同步辐射软X射线综合偏振测量装置对Ni的M2,3边附近(60—70eV)进行了软X射线磁光(magneto-optical)法拉第效应(Faraday effect)的偏转测量,实验装置主要由起偏器,检偏器,样品架,圆形钕铁硼永磁铁和MCP探测器组成,偏振元件(起偏元件和检偏元件)均采用反射式非周期性Mo/Si宽带多层膜.实验采用反射起偏和反射检偏的模式,得到一系列能量范围在60—70eV间的法拉第偏转角结果,结果表明在Ni的M2,3边附近法拉第效应最为明显,当能量为65.5eV和68eV时,Faraday偏转角分别为1.79°±0.19°(1.79°为正反向磁场偏转角大小的平均值)和-0.76°±0.09°(0.76°为正反向磁场偏转角大小的平均值).