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不同偏置条件下CMOS SRAM的总剂量辐射效应 被引量:4
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作者 李茂顺 余学峰 +8 位作者 任迪远 郭旗 李豫东 高博 崔江维 兰博 费武雄 陈睿 赵云 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期128-132,共5页
对1 Mb静态随机存取存储器(SRAM)进行了不同偏置条件下的总剂量辐照效应研究。结果表明,试验选取的CMOS SRAM器件为总剂量辐射敏感器件,辐照偏置条件对器件的电参数退化和功能失效有较大影响。在三种偏置条件中,静态加电为最劣偏置,其... 对1 Mb静态随机存取存储器(SRAM)进行了不同偏置条件下的总剂量辐照效应研究。结果表明,试验选取的CMOS SRAM器件为总剂量辐射敏感器件,辐照偏置条件对器件的电参数退化和功能失效有较大影响。在三种偏置条件中,静态加电为最劣偏置,其次是工作状态,浮空状态时器件的辐射损伤最小。在工作状态和静态加电两种偏置条件下,静态功耗电流的退化与器件功能失效密切相关,可作为器件功能失效的预警量。 展开更多
关键词 静态随机存取存储器 总剂量辐照 偏置条件
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不同偏置条件的10位CMOS模数转换器的辐射效应 被引量:3
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作者 陈睿 陆妩 +6 位作者 任迪远 郑玉展 王义元 费武雄 李茂顺 兰博 崔江维 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期1252-1256,共5页
对10位CMOSADC7910在不同偏置条件下的电离辐射效应及退火特性进行了研究。结果表明:模数混合电路在不同偏置条件下的电离辐照响应有很大的差异。与加电偏置相比,零偏下0.25Gy/s(Si)剂量率辐照时的辐射损伤更严重。并对其损伤机理进行... 对10位CMOSADC7910在不同偏置条件下的电离辐射效应及退火特性进行了研究。结果表明:模数混合电路在不同偏置条件下的电离辐照响应有很大的差异。与加电偏置相比,零偏下0.25Gy/s(Si)剂量率辐照时的辐射损伤更严重。并对其损伤机理进行了初步探讨。 展开更多
关键词 模数转换器 60Coγ辐照 室温退火 偏置条件
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偏置条件对NPN型锗硅异质结双极晶体管电离辐射效应的影响 被引量:2
3
作者 刘默寒 陆妩 +4 位作者 马武英 王信 郭旗 何承发 姜柯 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第6期36-42,共7页
本文研究了不同偏置条件下国产商用NPN型锗硅异质结双极晶体管(Silicon germanium hetero-junction bipolar transistors,SiGe HBTs)在60Coγ辐射环境中电离辐照响应特性和变化规律。实验结果表明,在0.8 Gy(Si)·s-1剂量率辐照下,... 本文研究了不同偏置条件下国产商用NPN型锗硅异质结双极晶体管(Silicon germanium hetero-junction bipolar transistors,SiGe HBTs)在60Coγ辐射环境中电离辐照响应特性和变化规律。实验结果表明,在0.8 Gy(Si)·s-1剂量率辐照下,总累积剂量达到1.1×104 Gy(Si)时,发射结反向偏置条件下60Coγ射线辐照对SiGe HBTs造成的损伤最大,零偏次之,正偏损伤最小;经过一定时间的退火后,零偏恢复程度最小,而正偏和反偏时的恢复趋势以及程度相同。分析了不同偏置状态下其电离辐照敏感参数随累积总剂量以及退火时间的变化关系,讨论了引起电参数失效的潜在机理。 展开更多
关键词 锗硅异质结双极晶体管 总剂量效应 偏置条件 退火
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偏置条件对国产SiGe BiCMOS器件总电离辐射效应的影响
4
作者 王利斌 王信 +3 位作者 吴雪 李小龙 刘默寒 陆妩 《辐射研究与辐射工艺学报》 CAS CSCD 2020年第5期60-66,共7页
本文研究了1 Gy(Si)/s的高剂量率辐照下,偏置条件对国产0.35μm SiGe BiCMOS工艺器件电离总剂量(Total ionizing dose,TID)辐射效应的影响。结果表明:高剂量率辐照下,国产SiGe BiCMOS器件具有非常好的抗电离总剂量效应能力,可以达到数... 本文研究了1 Gy(Si)/s的高剂量率辐照下,偏置条件对国产0.35μm SiGe BiCMOS工艺器件电离总剂量(Total ionizing dose,TID)辐射效应的影响。结果表明:高剂量率辐照下,国产SiGe BiCMOS器件具有非常好的抗电离总剂量效应能力,可以达到数十千戈瑞,基极电流对辐射更敏感。不同偏置条件下,器件TID累积到12 kGy(Si)时,反偏损伤最大,零偏次之,正偏增益退化最小。发现其主要机制是高剂量率辐射及外加偏置引入的边缘电场影响氧化层中诱导氧化物陷阱电荷和界面态产生,导致基极辐射敏感区增大,基极电流增大,从而使器件增益减小。 展开更多
关键词 SIGE BICMOS 偏置条件 电离总剂量 氧化物陷阱电荷 界面态
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晶体三极管工作状态的判定——灵活运用PN结偏置条件
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作者 田淑华 《科学大众(智慧教育)》 2009年第3期153-154,共2页
晶体三极管三个区的工作状态特点可以简单的概括为以下三句话,即:饱和状态时发射结和集电结均正偏;截止状态时发射结和集电结均反偏;放大状态时发射结正偏、集电结反偏。
关键词 三极管的结构 输出特性 工作状态 偏置条件
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偏置条件对SOI NMOS器件总剂量辐照效应的影响 被引量:5
6
作者 卓青青 刘红侠 +2 位作者 杨兆年 蔡惠民 郝跃 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第22期167-172,共6页
本文研究了0.8μm SOI NMOS晶体管,经剂量率为50rad(Si)/s的60Coγ射线辐照之后的总剂量效应,分析了器件在不同辐照条件和测量偏置下的辐照响应特性.研究结果表明:器件辐照时的栅偏置电压越高,辐照后栅氧化层中积累的空穴陷阱电荷越多,... 本文研究了0.8μm SOI NMOS晶体管,经剂量率为50rad(Si)/s的60Coγ射线辐照之后的总剂量效应,分析了器件在不同辐照条件和测量偏置下的辐照响应特性.研究结果表明:器件辐照时的栅偏置电压越高,辐照后栅氧化层中积累的空穴陷阱电荷越多,引起的漏极泄漏电流越大.对于漏偏置为5V的器件,当栅电压大于阈值电压时,前栅ID-VG特性曲线中的漏极电流因碰撞电离而突然增大,体电极的电流曲线呈现倒立的钟形. 展开更多
关键词 总剂量辐照效应 泄漏电流 偏置条件 碰撞电离
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不同偏置下增强型AlGaN/GaN HEMT器件总剂量效应研究
7
作者 邱一武 郭风岐 +2 位作者 殷亚楠 张平威 周昕杰 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2023年第11期55-63,共9页
氮化镓功率器件凭借优异性能被抗辐照应用领域重点关注,为探究氮化镓功率器件抗γ射线辐照损伤能力,明确其辐射效应退化机制,针对增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(High Electron Mobility Transistor,HEMT)器件开展不同偏置(开态、... 氮化镓功率器件凭借优异性能被抗辐照应用领域重点关注,为探究氮化镓功率器件抗γ射线辐照损伤能力,明确其辐射效应退化机制,针对增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(High Electron Mobility Transistor,HEMT)器件开展不同偏置(开态、关态和零偏置)条件下的γ射线辐照与不同温度的退火试验,分析器件电学性能同偏置条件和退火环境之间的响应规律。结果表明:随着γ射线辐照剂量的增加,器件阈值电压负漂,跨导峰值、饱和漏电流和反向栅泄漏电流逐渐增加,且在开态偏置条件下器件的电学特性退化更加严重;此外,高温环境下退火会导致器件的电学性能恢复更加明显。分析认为γ射线辐照剂量越高,产生的辐照缺陷越多,同时栅极偏压会降低辐照引发的电子-空穴对的初始复合率,逃脱初始复合的空穴数量增多,进一步增加了缺陷电荷的浓度;而高温环境会导致器件发生隧穿退火或热激发退火,有助于器件性能恢复。氮化镓功率器件的辐照损伤过程及机理研究,为其空间环境应用的评估验证提供了数据支撑。 展开更多
关键词 增强型AlGaN/GaN HEMT器件 总剂量效应 偏置条件 电学性能 退火恢复
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不同偏置下CMOSSRAM辐射损伤效应
8
作者 卢健 余学峰 +4 位作者 李明 张乐情 崔江维 郑齐文 胥佳灵 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第8期601-605,共5页
通过对CMOS SRAM器件在7种不同的偏置条件(包括静态偏置和动态读写偏置)下进行电离辐射总剂量效应的研究,获得了不同偏置条件下SRAM器件功耗电流和功能出错数随累积剂量的响应关系。实验结果表明偏置条件对SRAM器件辐射损伤情况有较大影... 通过对CMOS SRAM器件在7种不同的偏置条件(包括静态偏置和动态读写偏置)下进行电离辐射总剂量效应的研究,获得了不同偏置条件下SRAM器件功耗电流和功能出错数随累积剂量的响应关系。实验结果表明偏置条件对SRAM器件辐射损伤情况有较大影响,相对5种静态偏置,动态读写偏置所受辐射损伤较不敏感,其功能失效阈值也较大;SRAM总剂量效应存在印记现象,辐照时器件存储状态对辐照损伤有一定影响。 展开更多
关键词 静态随机存储器 总剂量效应 不同偏置条件 辐射损伤 印记现象
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不同偏置下10位双极模数转换器高低剂量率的辐射效应
9
作者 胥佳灵 陆妩 +5 位作者 吴雪 何承发 胡天乐 卢健 张乐情 于新 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第5期578-582,622,共6页
研究了10位双极模数转换器(ADC)在60Coγ射线不同剂量率、不同偏置条件辐照下的电离辐射效应及退火特性。研究结果发现,此类模数混合信号电路在不同偏置和不同剂量率辐照下的电离辐照响应有较大差异。同一电参数既表现出低剂量率损伤增... 研究了10位双极模数转换器(ADC)在60Coγ射线不同剂量率、不同偏置条件辐照下的电离辐射效应及退火特性。研究结果发现,此类模数混合信号电路在不同偏置和不同剂量率辐照下的电离辐照响应有较大差异。同一电参数既表现出低剂量率损伤增强效应(ELDRS)又表现出时间相关效应(TDE)。研究结果进一步表明,低剂量率辐照0 V偏置是最劣偏置;与之相反,高剂量率辐照5 V偏置是最劣偏置,而加电阻偏置对辐照损伤有一定的抑制作用。最后,结合空间电荷模型和边缘电场效应对其辐照损伤差异及退火机理进行了初步探讨。 展开更多
关键词 双极模数转换器 60Coγ辐照 偏置条件 ELDRS 室温退火
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不同偏置下CCD器件γ射线及质子辐射研究
10
作者 杨智康 文林 +3 位作者 周东 李豫东 冯婕 郭旗 《太赫兹科学与电子信息学报》 2022年第9期915-921,共7页
电荷耦合器件(CCD)是用于空间光电系统可见光成像的图像传感器,在空间应用环境下受辐射效应作用导致CCD性能退化甚至失效。对于CCD空间辐射效应的地面模拟试验研究,辐照试验中CCD采用合适的偏置条件是分析其空间辐射损伤的必要措施。由... 电荷耦合器件(CCD)是用于空间光电系统可见光成像的图像传感器,在空间应用环境下受辐射效应作用导致CCD性能退化甚至失效。对于CCD空间辐射效应的地面模拟试验研究,辐照试验中CCD采用合适的偏置条件是分析其空间辐射损伤的必要措施。由于CCD对质子辐照导致的电离总剂量效应和位移损伤效应均非常敏感,因此针对CCD空间应用面临的电离总剂量效应和位移损伤效应威胁,开展不同辐照偏置下CCD的辐射效应及损伤机理研究。针对一款国产埋沟CCD器件,开展不同偏置条件下的γ射线和质子辐照试验,获得了CCD的暗电流、光谱响应等辐射敏感参数的电离总剂量效应,位移损伤效应退化规律以及辐照偏置对CCD辐射效应的影响机制。研究表明,γ射线辐照下CCD的偏置产生重要影响,质子辐照下没有明显的偏置效应。根据CCD结构和辐照后的退火试验结果,对CCD的辐射效应损伤机理进行分析。 展开更多
关键词 电荷耦合器件 电离总剂量效应 位移损伤效应 偏置条件
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偏压条件对光耦合器总剂量辐照效应的影响 被引量:1
11
作者 何玉娟 罗宏伟 恩云飞 《电子器件》 CAS 2011年第5期511-513,共3页
通过对不同偏压条件对光耦合器总剂量辐照效应的影响进行研究,结果发现随着总剂量的增加,光耦合器电流转换率CTR会降低60%~80%,且输入低电流时光耦合器总剂量辐照损伤更严重,其原因可能是输入低电流时光耦合器内部发光二极管辐照过程... 通过对不同偏压条件对光耦合器总剂量辐照效应的影响进行研究,结果发现随着总剂量的增加,光耦合器电流转换率CTR会降低60%~80%,且输入低电流时光耦合器总剂量辐照损伤更严重,其原因可能是输入低电流时光耦合器内部发光二极管辐照过程中更容易产生非发光陷阱所致。 展开更多
关键词 可靠性 辐照 总剂量 光耦合器 偏置条件
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考虑弛豫效应的SiC MOSFET阈值电压测量方法研究 被引量:1
12
作者 王臻卓 任婷婷 《电子器件》 CAS 北大核心 2023年第1期74-78,共5页
碳化硅(SiC)MOSFET栅极氧化层中的陷阱造就了其独特的阈值电压弛豫效应的特性,使得SiC MOSFET的阈值电压定义和测量成为一个棘手的问题。首先基于弛豫效应的饱和现象,提出了“预偏置+测量”组合的测量方法,一共需要测量两次阈值电压,以... 碳化硅(SiC)MOSFET栅极氧化层中的陷阱造就了其独特的阈值电压弛豫效应的特性,使得SiC MOSFET的阈值电压定义和测量成为一个棘手的问题。首先基于弛豫效应的饱和现象,提出了“预偏置+测量”组合的测量方法,一共需要测量两次阈值电压,以确定阈值电压漂移的上下限,并以其平均值定义为阈值电压。然后设计实验测量电路,对某型号SiC MOSFET器件在不同预偏置条件下进行实验测量,分析预偏置电压和脉冲持续时间对测量结果的影响,结果表明合理选择预偏置阶段的实验条件可以确保弛豫效应达到饱和,并可得到重复性的阈值电压测量结果。 展开更多
关键词 SiC MOSFET 阈值电压测量 弛豫效应 偏置条件
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双极运算放大器在不同电子能量下的辐射效应和退火特性 被引量:2
13
作者 胡天乐 陆妩 +4 位作者 何承发 席善斌 周东 胥佳灵 吴雪 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期657-663,共7页
介绍了LM837双极运算放大器分别在不同能量(1.8、1 MeV)不同束流、相同能量不同束流电子辐照环境中的响应特性及变化规律。分析了不同偏置状态下其电离辐照敏感参数在辐照后3种退火温度(室温,100、125℃)下随时间的变化,并讨论了引起电... 介绍了LM837双极运算放大器分别在不同能量(1.8、1 MeV)不同束流、相同能量不同束流电子辐照环境中的响应特性及变化规律。分析了不同偏置状态下其电离辐照敏感参数在辐照后3种退火温度(室温,100、125℃)下随时间的变化,并讨论了引起电参数失效的机理。结果表明:与1 MeV辐照相比,1.8MeV电子辐照引起的LM837辐射损伤更明显;辐照过程中正偏条件下的偏置电流变化较零偏时的稍大;LM837辐照后的退火行为与温度有较大的依赖关系,而这种关系与辐照感生的界面态密度增长直接相关。 展开更多
关键词 双极运算放大器 电子辐照 偏置条件 退火
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10位双极数模转换器的电离辐射效应 被引量:2
14
作者 王义元 陆妩 +4 位作者 任迪远 郑玉展 高博 李鹏伟 于跃 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2009年第4期551-555,共5页
研究了国产互补双极工艺生产的数模转换器(D/A转换器)在不同偏置和不同剂量率条件下的电离辐射效应及退火特性。研究结果表明:D/A转换器对偏置条件和辐照剂量率都很敏感。大剂量率辐照时,电路功能正常,各功能参数变化较小;而在低剂量率... 研究了国产互补双极工艺生产的数模转换器(D/A转换器)在不同偏置和不同剂量率条件下的电离辐射效应及退火特性。研究结果表明:D/A转换器对偏置条件和辐照剂量率都很敏感。大剂量率辐照时,电路功能正常,各功能参数变化较小;而在低剂量率辐照情况下,各参数变化显著,超出器件允许范围,器件功能失效。因此,D/A转换器表现出明显的低剂量率辐射损伤增强效应(ELDRS)。零偏时,D/A转换器功能参数损伤变化更加严重。最后,结合边缘电场效应和空间电荷模型对这种不同偏置和剂量率条件下的损伤机理进行了初步的探讨。 展开更多
关键词 双极数模转换器 ^60Co辐照 低剂量率辐射损伤增强效应 偏置条件
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MOSFET输出阻抗对混频器线性度影响分析 被引量:2
15
作者 唐守龙 罗岚 陆生礼 《应用科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期169-173,共5页
深入研究了MOSFET输出阻抗对Gilbert混频器线性度的影响 ,建立了针对MOSFET输出阻抗的混频器非线性模型 ,得出了Gilbert混频器线性度最优偏置条件 .基于 0 .2 5 μmCMOS工艺的Gilbert混频器验证结果表明 ,预测得到的线性度最优理论偏置... 深入研究了MOSFET输出阻抗对Gilbert混频器线性度的影响 ,建立了针对MOSFET输出阻抗的混频器非线性模型 ,得出了Gilbert混频器线性度最优偏置条件 .基于 0 .2 5 μmCMOS工艺的Gilbert混频器验证结果表明 ,预测得到的线性度最优理论偏置值与验证结果之间的误差小于 10 % . 展开更多
关键词 MOSFET 输出阻抗 混频器 线性度 CMOS工艺 非线性模型 偏置条件 最优理论 验证
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基于PSPICE的虚拟电子工作平台在使用中应注意的问题 被引量:6
16
作者 施文济 《微计算机信息》 2004年第1期85-86,共2页
使用以PSPICE软件为内核的虚拟电子工作平台进行电子线路仿真时,常会碰到按常规电路构成方法所编写的输入文件不能在该平台上正常运行。文中根据使用该平台的体会,剖析电路仿真中应注意的问题,并提出解决方法。
关键词 PSPICE软件 虚拟电子工作平台 电路构成 电路仿真 节点悬浮 电路引脚 端口悬空 偏置条件 精度设置 电路方程
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三维功率MOSFET器件漏极持续电流分析方法
17
作者 林洁馨 杨发顺 +2 位作者 马奎 唐昭焕 傅兴华 《现代电子技术》 北大核心 2016年第24期137-140,共4页
二维功率MOSFET器件的漏极持续电流是一个受限于封装形式和芯片设计的极限参数,传统分析方法是通过器件的最大耗散功率对其进行评估。基于三维集成技术的功率MOSFET器件,散热路径热阻难于精确确定,故提出一种针对三维集成功率MOSFET器件... 二维功率MOSFET器件的漏极持续电流是一个受限于封装形式和芯片设计的极限参数,传统分析方法是通过器件的最大耗散功率对其进行评估。基于三维集成技术的功率MOSFET器件,散热路径热阻难于精确确定,故提出一种针对三维集成功率MOSFET器件,以晶格自加热效应为基础的漏极持续电流分析方法,并以一颗开关工作状态下的100 V功率VDMOS器件为研究对象,在正向设计阶段分析了功率VDMOS器件漏极持续电流的导通偏置条件。最后通过流片结果验证了该方法的可行性。 展开更多
关键词 漏极持续电流 三维集成 自加热效应 导通偏置条件
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晶体三极管及其特性 被引量:1
18
作者 纪素梅 刘怀望 《科技传播》 2012年第20期108-108,106,共2页
晶体三极管三个区的工作状态特点可概括为以下三句话:三极管工作在饱和状态时发射结正偏,集电结也正偏;工作在放大状态时发射结正偏、集电结反偏;工作在截止状态时发射结反偏,集电结也反偏。晶体三极管是电子技术最基本、最重要的器件之... 晶体三极管三个区的工作状态特点可概括为以下三句话:三极管工作在饱和状态时发射结正偏,集电结也正偏;工作在放大状态时发射结正偏、集电结反偏;工作在截止状态时发射结反偏,集电结也反偏。晶体三极管是电子技术最基本、最重要的器件之一,也是模拟电子技术教学的重点内容。 展开更多
关键词 三极管的结构 输出特性 工作状态 偏置条件
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Environmental cues associated with morphine modulate release of glutamate and γ-aminobutyric acid in ventral subiculum 被引量:2
19
作者 康林 戴正泽 +1 位作者 李浩洪 马兰 《Neuroscience Bulletin》 SCIE CAS CSCD 2006年第5期255-260,共6页
Objective To investigate whether environmental cues associated with different properties of morphine could regulate the extracellular levels of glutamate and y-aminobutyric acid (GABA) in the hippocampal ventral sub... Objective To investigate whether environmental cues associated with different properties of morphine could regulate the extracellular levels of glutamate and y-aminobutyric acid (GABA) in the hippocampal ventral subiculum, which play a critical role in the reinstatement of drug-seeking behavior induced by environmental cues. Methods Conditioning place preference (CPP) and conditioning place aversion (CPA) models were used to establish environment associated with rewarding and aversive properties of morphine respectively. Microdialysis and high performance liquid chromatography were used to measure the extracelluar level of glutamate and GABA in the ventral subiculum under these environmental cues. Results Exposure to the environmental cues associated with rewarding properties of morphine resulted in a decrease (approximately 11%) of extracellular level of GABA in ventral subiculum, and exposure to the environmental cues associated with aversive properties of morphine resulted in an increase (approximately 230%) of extracellular level of glutamate in ventral subiculum. Conclusion Environmental cues associated with different properties of morphine modulate the release of distinct neurotransmitters in the hippocampal ventral subiculum possibly through different neural circuit. 展开更多
关键词 conditioning place preference conditioning place aversion ventral subiculum MICRODIALYSIS γ-aminobutyric acid GLUTAMATE
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电离总剂量辐照试验流程阐述 被引量:3
20
作者 王文双 费武雄 《电子产品可靠性与环境试验》 2012年第B05期163-166,共4页
空间辐射环境是影响航天电子设备长期稳定运行的重要因素,是当前航天电子技术研究的重点。针对目前国内主要的电离总剂量辐照试验标准,阐述了MOS的辐照试验流程,并对其中包含的机理进行了详细的分析;同时,对试验方法中有关偏置条件、辐... 空间辐射环境是影响航天电子设备长期稳定运行的重要因素,是当前航天电子技术研究的重点。针对目前国内主要的电离总剂量辐照试验标准,阐述了MOS的辐照试验流程,并对其中包含的机理进行了详细的分析;同时,对试验方法中有关偏置条件、辐照后测试时间的规定等内容进行了详细的分析。 展开更多
关键词 电离总剂量 金属-氧化物-半导体器件 辐照流程 偏置条件
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