偶合化学发光法测定砷的研究

本文将KMnO4在酸性介质中氧化As(Ⅲ )和高锰酸钾—甲氧苄啶—硫代硫酸钠化学发光反应偶合一起 ,建立了一种间接测定痕量砷含量的新方法。研究了各种反应物浓度、酸度、干扰离子等因素对测定结果的影响。As(Ⅲ )浓度在 1.0× 10 - 7～ 1.0× 10 - 5g/mL范围内与化学发光强度有较好的线性关系 .对 5 .0× 10 - 6 g/mL的As(Ⅲ )进行了 11次平行测定 ,相对标准偏差为 2 .8% ,方法的检出限为 2 .2× 10 - 9g/mL。

偶合反应流动注射化学发光分析法测定有机还原性物质的研究

基于重铬酸钾在酸性介质下氧化有机还原性物质生成Cr3+的反应与Luminol H2O2 Cr3+化学发光反应相偶合,建立了一种广普、快速测定痕量至微量有机还原性物质的新方法.研究并优化了化学发光检测的条件,测定了11种常见有机还原性物质.方法的检出限(mol/L)分别为:抗坏血酸,1.2×10-9;尿酸,1.5×10-7;肌酸酐,3.0×10-7;谷胱甘肽,5.4×10-6;盐酸羟胺,6.0×10-8;硫酸肼,4.8×10-7;水合肼,5.2×10-7;甲醛,6.1×10-7;乙醛,5.3×10-7;葡萄糖,7.0×10-6;果糖,8.3×10-6.测定的相对标准偏差(RSD%,n=6)在1.2%～2.3%范围内.