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光学光刻的极限
被引量:
2
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作者
童志义
《电子工业专用设备》
2004年第2期4-9,共6页
讨论了光学光刻技术的各种分辨力增强技术(RETs),根据各类光刻设备的开发进展,探讨了光学光刻技术的加工极限。
关键词
光学光刻
分辨力增强技术
浸没式透镜
偶极照明双重曝光
分辨力
极
限
下载PDF
职称材料
题名
光学光刻的极限
被引量:
2
1
作者
童志义
机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出处
《电子工业专用设备》
2004年第2期4-9,共6页
文摘
讨论了光学光刻技术的各种分辨力增强技术(RETs),根据各类光刻设备的开发进展,探讨了光学光刻技术的加工极限。
关键词
光学光刻
分辨力增强技术
浸没式透镜
偶极照明双重曝光
分辨力
极
限
Keywords
Optical Lithography
RETs
Immersion Lithography
Double-Exposure Dipole Lithogra-phy
Ultimate Resolution
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
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作者
出处
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光学光刻的极限
童志义
《电子工业专用设备》
2004
2
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