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光学光刻的极限 被引量:2
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作者 童志义 《电子工业专用设备》 2004年第2期4-9,共6页
讨论了光学光刻技术的各种分辨力增强技术(RETs),根据各类光刻设备的开发进展,探讨了光学光刻技术的加工极限。
关键词 光学光刻 分辨力增强技术 浸没式透镜 偶极照明双重曝光 分辨力
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