硅烷偶联剂KH-570表面修饰羟基磷灰石的结构与吸附性能研究

采用硅烷偶联剂KH-570对羟基磷灰石粉体进行表面修饰,使羟基磷灰石在聚合物介质中有较好的相容性和分散稳定性。采用红外光谱、热重、差热、激光粒度、Zeta电位和X射线衍射等方法对表面修饰前后的羟基磷灰石进行表征分析。结果表明,KH-570硅烷偶联剂结合在羟基磷灰石表面,并未对其晶体产生明显影响;羟基磷灰石经修饰后在水溶液中的Zeta电位绝对值增加,分散稳定性提高,粒子团聚程度降低,纳米级颗粒尺寸从272.8nm减小到166nm,Cd2+吸附性能随增重率的增加而降低。