透射电镜像转角的测定及应用

论述了完全标定透射电镜像转角所需拍摄的二次曝光电子显微像的数量 ,推导了由已测的像转角间接计算其它像转角的一般公式。以PhilipsCM200电镜为实例 ,说明了测定像转角的基本步骤 ,并以实例说明怎样利用像转角 ,把衍射花样的晶体学信息传递给电子显微像。

磁聚焦变像管像转角的数值计算与实验研究

建立短磁聚焦变像管测试系统,利用Lorentz 3D-EM软件模拟电子运动成像并计算像转角.在不同阴极电压条件下,采用数值模拟研究变像管像转角的变化规律.结果表明,当成像倍率为1∶1、阴极电压为-3 k V时,模拟像转角为77.09°.实验测量的像转角是71.0°,且随阴极电压绝对值的下降而减小.根据模拟与实验的像转角的差值,估算出实验中采用的短磁聚焦透镜漏磁电流安匝数为45.0 A·个.