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高精度光学元件支撑装置面形复现性分析与测量
被引量:
7
1
作者
王辉
周烽
+2 位作者
王丽萍
于杰
金春水
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第12期155-159,共5页
为了评价高精度光学元件支撑装置的面形复现性指标,进行了分析计算和实验验证。在ANSYS有限元分析软件中建立了元件支撑的物理模型,进行了支撑结构的残余应力分析以及元件面形对干扰载荷的灵敏度分析,据此计算得到了支撑结构面形复现性...
为了评价高精度光学元件支撑装置的面形复现性指标,进行了分析计算和实验验证。在ANSYS有限元分析软件中建立了元件支撑的物理模型,进行了支撑结构的残余应力分析以及元件面形对干扰载荷的灵敏度分析,据此计算得到了支撑结构面形复现性均方根(RMS)误差。分析结果表明,基于目前结构设计和装配精度,元件支撑装置设计的面形复现性RMS优于0.14nm。基于高重复性干涉检测装置构建了复现性测量平台,测量结果表明支撑装置面形复现性RMS优于0.18nm。复现性检测实验结果和仿真结果能较好吻合,所得结果满足高复现性元件支撑技术的要求。
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关键词
光学设计
光刻技术
有限元分析
元件支撑装置
复现性测量
原文传递
题名
高精度光学元件支撑装置面形复现性分析与测量
被引量:
7
1
作者
王辉
周烽
王丽萍
于杰
金春水
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第12期155-159,共5页
基金
国家科技重大专项资助项目
文摘
为了评价高精度光学元件支撑装置的面形复现性指标,进行了分析计算和实验验证。在ANSYS有限元分析软件中建立了元件支撑的物理模型,进行了支撑结构的残余应力分析以及元件面形对干扰载荷的灵敏度分析,据此计算得到了支撑结构面形复现性均方根(RMS)误差。分析结果表明,基于目前结构设计和装配精度,元件支撑装置设计的面形复现性RMS优于0.14nm。基于高重复性干涉检测装置构建了复现性测量平台,测量结果表明支撑装置面形复现性RMS优于0.18nm。复现性检测实验结果和仿真结果能较好吻合,所得结果满足高复现性元件支撑技术的要求。
关键词
光学设计
光刻技术
有限元分析
元件支撑装置
复现性测量
Keywords
optical design
lithography technology
finite element analysis
optic mount
reproducibility measurement
分类号
TH122 [机械工程—机械设计及理论]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高精度光学元件支撑装置面形复现性分析与测量
王辉
周烽
王丽萍
于杰
金春水
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
7
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参考文献
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