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台槽刻蚀对埋栅型静电感应晶体管特性的影响
1
作者
朱筠
《现代电子技术》
2012年第8期175-178,共4页
对埋栅型SIT,为切断栅极和源极(或阴极)之间在外延过程中形成的连体,打开栅电极区,进行外延后的台面刻蚀,对台面刻蚀的深度和形状进行研究;为消除栅墙外划片边界造成的各种寄生效应,在有源区的外面挖深槽,以保证栅源击穿发生在内部、实...
对埋栅型SIT,为切断栅极和源极(或阴极)之间在外延过程中形成的连体,打开栅电极区,进行外延后的台面刻蚀,对台面刻蚀的深度和形状进行研究;为消除栅墙外划片边界造成的各种寄生效应,在有源区的外面挖深槽,以保证栅源击穿发生在内部、实现击穿接近理论值。对先刻蚀台面还是先刻蚀槽的问题做了实验对比,结果发现先台后槽更有利于器件特性的改善。
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关键词
埋栅型SIT
台面刻蚀
深
槽
刻蚀
先台后槽
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职称材料
题名
台槽刻蚀对埋栅型静电感应晶体管特性的影响
1
作者
朱筠
机构
西安邮电学院电子工程学院
出处
《现代电子技术》
2012年第8期175-178,共4页
基金
甘肃省自然科学基金(3ZS051-A24-034)
文摘
对埋栅型SIT,为切断栅极和源极(或阴极)之间在外延过程中形成的连体,打开栅电极区,进行外延后的台面刻蚀,对台面刻蚀的深度和形状进行研究;为消除栅墙外划片边界造成的各种寄生效应,在有源区的外面挖深槽,以保证栅源击穿发生在内部、实现击穿接近理论值。对先刻蚀台面还是先刻蚀槽的问题做了实验对比,结果发现先台后槽更有利于器件特性的改善。
关键词
埋栅型SIT
台面刻蚀
深
槽
刻蚀
先台后槽
Keywords
SIT with buried-gate structure
mesa etching
deep groove etching
mesa etching first then groove etching
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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作者
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1
台槽刻蚀对埋栅型静电感应晶体管特性的影响
朱筠
《现代电子技术》
2012
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